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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第422位 98件
(2016年:第444位 78件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第472位 54件
(2016年:第483位 58件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 6182737 | ウエハの特性決定のための方法とシステム | 2017年 8月23日 | |
特許 6184473 | レチクルの劣化を検出するための反射マップおよび透過マップの使用 | 2017年 8月23日 | |
特許 6184490 | 複合型x線および光学計測のためのモデル構築ならびに解析エンジン、方法、コンピュータ読み取り可能媒体 | 2017年 8月23日 | |
特許 6184518 | 活性プラズマ内原位置測定のための高温センサウェーハ | 2017年 8月23日 | |
特許 6186044 | デザイナ・インテント・データを使用するウェハとレチクルの検査の方法およびシステム | 2017年 8月23日 | |
特許 6180435 | ビット不良および仮想検査を用いたウェハ検査プロセスの生成 | 2017年 8月16日 | |
特許 6181154 | 極端紫外光又は深紫外光の被曝により劣化した撮像センサを修復するシステム及び方法 | 2017年 8月16日 | |
特許 6173220 | 偏光角度が調節可能な複合偏光子 | 2017年 8月 2日 | |
特許 6173423 | 自動検査半導体デバイスのレシピ生成のための方法、コンピュータシステムおよび装置 | 2017年 8月 2日 | |
特許 6173487 | パターン化された欠陥の輪郭ベースのアレイ検査 | 2017年 8月 2日 | |
特許 6171080 | 明視野差分干渉コントラストを用いた強化検査及び計測技法及びシステム | 2017年 7月26日 | |
特許 6165064 | 集束電子ビーム機器のスループットを向上させるための多極静電偏向器 | 2017年 7月19日 | |
特許 6165166 | スポット走査システムのための改善された高速対数光検出器 | 2017年 7月19日 | |
特許 6165283 | オーバーレイ計測測定システム | 2017年 7月19日 | |
特許 6157357 | 製造された基板上の点在したホットスポット領域を検査する方法および装置 | 2017年 7月 5日 |
54 件中 16-30 件を表示
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6182737 6184473 6184490 6184518 6186044 6180435 6181154 6173220 6173423 6173487 6171080 6165064 6165166 6165283 6157357
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