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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第370位 98件
(
2016年:第431位 78件)
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第472位 54件
(
2016年:第482位 58件)
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6186044 | デザイナ・インテント・データを使用するウェハとレチクルの検査の方法およびシステム | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6184518 | 活性プラズマ内原位置測定のための高温センサウェーハ | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6184490 | 複合型x線および光学計測のためのモデル構築ならびに解析エンジン、方法、コンピュータ読み取り可能媒体 | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6184473 | レチクルの劣化を検出するための反射マップおよび透過マップの使用 | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6182737 | ウエハの特性決定のための方法とシステム | 2017年 8月23日 | |
| 特許 6181154 | 極端紫外光又は深紫外光の被曝により劣化した撮像センサを修復するシステム及び方法 | 2017年 8月16日 | |
| 特許 6180435 | ビット不良および仮想検査を用いたウェハ検査プロセスの生成 | 2017年 8月16日 | |
| 特許 6173487 | パターン化された欠陥の輪郭ベースのアレイ検査 | 2017年 8月 2日 | |
| 特許 6173423 | 自動検査半導体デバイスのレシピ生成のための方法、コンピュータシステムおよび装置 | 2017年 8月 2日 | |
| 特許 6173220 | 偏光角度が調節可能な複合偏光子 | 2017年 8月 2日 | |
| 特許 6171080 | 明視野差分干渉コントラストを用いた強化検査及び計測技法及びシステム | 2017年 7月26日 | |
| 特許 6165283 | オーバーレイ計測測定システム | 2017年 7月19日 | |
| 特許 6165166 | スポット走査システムのための改善された高速対数光検出器 | 2017年 7月19日 | |
| 特許 6165064 | 集束電子ビーム機器のスループットを向上させるための多極静電偏向器 | 2017年 7月19日 | |
| 特許 6158795 | レーザパルスマルチプライヤを用いた半導体検査および計測システム | 2017年 7月 5日 |
54 件中 16-30 件を表示
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6186044 6184518 6184490 6184473 6182737 6181154 6180435 6173487 6173423 6173220 6171080 6165283 6165166 6165064 6158795
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