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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第370位 98件
（
2016年：第431位 78件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第472位 54件
（2016年：第482位 58件）
（ランキング更新日：2026年10月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6099626 | 向上したプロセス制御のための品質測定値を提供するための方法およびシステム | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6097300 | 計量学のためのプロセス変動ベースのモデル最適化の方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6085250 | 半導体ウェハーエッジ検査のための座標融合および厚さ較正 | 2017年 2月22日 | |
| 特許 6073832 | 次数選択されたオーバレイ測定 | 2017年 2月 1日 | |
| 特許 6073020 | 高品質で安定した出力ビーム、および長寿命高変換効率の非線形結晶を備えたレーザ | 2017年 2月 1日 | |
| 特許 6072800 | 低減されたデブリ生成を有するレーザ生成プラズマＥＵＶ源 | 2017年 2月 1日 | |
| 特許 6062521 | 光学的検査システムの製造方法 | 2017年 1月18日 | |
| 特許 6061844 | 欠陥レビュー中における欠陥場所のランタイム補正方法及び装置 | 2017年 1月18日 | |
| 特許 6058763 | 半導体装置レシピ管理方法 | 2017年 1月11日 |
54 件中 46-54 件を表示
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6099626 6097300 6085250 6073832 6073020 6072800 6062521 6061844 6058763
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