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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第422位 98件
（
2016年：第444位 78件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第472位 54件
（2016年：第483位 58件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6099635 | 検査装置を用いたコンターベースの欠陥検出 | 2017年 3月22日 | |
| 特許 6097300 | 計量学のためのプロセス変動ベースのモデル最適化の方法 | 2017年 3月15日 | |
| 特許 6085250 | 半導体ウェハーエッジ検査のための座標融合および厚さ較正 | 2017年 2月22日 | |
| 特許 6072800 | 低減されたデブリ生成を有するレーザ生成プラズマＥＵＶ源 | 2017年 2月 1日 | |
| 特許 6073020 | 高品質で安定した出力ビーム、および長寿命高変換効率の非線形結晶を備えたレーザ | 2017年 2月 1日 | |
| 特許 6073832 | 次数選択されたオーバレイ測定 | 2017年 2月 1日 | |
| 特許 6061844 | 欠陥レビュー中における欠陥場所のランタイム補正方法及び装置 | 2017年 1月18日 | |
| 特許 6062521 | 光学的検査システムの製造方法 | 2017年 1月18日 | |
| 特許 6058763 | 半導体装置レシピ管理方法 | 2017年 1月11日 |
54 件中 46-54 件を表示
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6099635 6097300 6085250 6072800 6073020 6073832 6061844 6062521 6058763
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