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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第332位 104件
(2022年:第296位 118件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第345位 92件
(2022年:第335位 90件)
(ランキング更新日:2025年8月25日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7369116 | 薄膜オン格子及びバンドギャップオン格子の計測 | 2023年10月25日 | |
特許 7369196 | 共配置計量方法及びシステム | 2023年10月25日 | |
特許 7369306 | 半導体デバイスの位置ずれを計測する際役立つデバイス規模フィーチャを有する位置ずれターゲット | 2023年10月25日 | |
特許 7368540 | レーザ生成プラズマ光源向けのドロップレット生成装置 | 2023年10月24日 | |
特許 7366920 | 半導体デバイス製造中におけるウェハ特性解明データの自己相関及び複合ウェハ指標の生成 | 2023年10月23日 | |
特許 7362893 | ウェーハワープ適用範囲を維持しながら効率が劣るピクセルを用いてデータ処理スループットを向上させるシステム及び方法 | 2023年10月17日 | |
特許 7355817 | ブランクレチクル上の欠陥のタイプおよびサイズを判定するためのシステムおよび方法 | 2023年10月 3日 | |
特許 7353385 | 接地されたサンプル近接静電容量センサを有する検査システム | 2023年 9月29日 | |
特許 7350880 | 背表面粗さを前側オーバレイに変換するシステム及び方法 | 2023年 9月26日 | |
特許 7345542 | デバイスオーバレイ誤差低減 | 2023年 9月15日 | |
特許 7345572 | 半導体デバイス内の層間の位置ずれを測定して修正するための方法、およびそれにおいて有用な位置ずれターゲット | 2023年 9月15日 | |
特許 7344952 | 空間選択的波長フィルタにより修正された光源を用いて試料を撮像するためのシステム及び方法並びに紫外線光源 | 2023年 9月14日 | |
特許 7344954 | 二回折次数撮像を用いるオフ軸照明オーバレイ計測 | 2023年 9月14日 | |
特許 7344225 | 結像系設計における微分干渉コントラストの走査 | 2023年 9月13日 | |
特許 7344285 | マルチ電子ビームシステム用偏向アレイ装置 | 2023年 9月13日 |
92 件中 16-30 件を表示
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7369116 7369196 7369306 7368540 7366920 7362893 7355817 7353385 7350880 7345542 7345572 7344952 7344954 7344225 7344285
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