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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第332位 104件 (2022年:第296位 118件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7296940 | ハイパワーファイバ照明源用分光フィルタ | 2023年 6月23日 | |
特許 7289912 | 埋もれた欠陥の特性付けのためのシステムおよび方法 | 2023年 6月12日 | |
特許 7288144 | 周期的半導体デバイス位置ずれ計量システム及び方法 | 2023年 6月 6日 | |
特許 7284746 | X線依拠計量用高輝度クリーンX線源 | 2023年 5月31日 | |
特許 7284813 | 半導体基板の限界寸法測定のための深層学習ベースの適応関心領域 | 2023年 5月31日 | |
特許 7282853 | オーバレイ計測システムおよび方法 | 2023年 5月29日 | |
特許 7273121 | 垂直スタックメモリにおいて欠陥深さを決定するための方法及びシステム | 2023年 5月12日 | |
特許 7271572 | アレイ型特性解明ツール | 2023年 5月11日 | |
特許 7271642 | 円筒対称要素上を覆うターゲット素材を有するレーザ生成プラズマ光源 | 2023年 5月11日 | |
特許 7269997 | デュアルカラムパラレルCCDセンサおよびセンサを用いた検査システム | 2023年 5月 9日 | |
特許 7270034 | 極紫外線フォトマスク上で検出される欠陥の処理 | 2023年 5月 9日 | |
特許 7268031 | 機械学習を用いたレティクルの検査 | 2023年 5月 2日 | |
特許 7268156 | 大量生産工程監視用に疎結合された検査及び計測システム | 2023年 5月 2日 | |
特許 7262423 | ウエハレベル欠陥の転写性を予測する装置および方法 | 2023年 4月21日 | |
特許 7258210 | データ駆動型ミスレジストレーションパラメータ設定および測定システムおよび方法 | 2023年 4月14日 |
92 件中 46-60 件を表示
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7296940 7289912 7288144 7284746 7284813 7282853 7273121 7271572 7271642 7269997 7270034 7268031 7268156 7262423 7258210
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