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ケーエルエー−テンカー コーポレイション
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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第332位 104件
（
2022年：第296位 118件）
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第345位 92件
（2022年：第335位 90件）
（ランキング更新日：2025年8月25日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ケーエルエー−テンカー コーポレイションの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7257511 | 画像フレームに基づくアルゴリズムセレクタ | 2023年 4月13日 | |
| 特許 7254177 | 粒子検出のためのラジアル偏光子 | 2023年 4月 7日 | |
| 特許 7254217 | 誘導されたトポグラフィを利用した半導体デバイスウェハの位置ずれを測定するためのシステムと方法 | 2023年 4月 7日 | |
| 特許 7253006 | 光学システム | 2023年 4月 5日 | |
| 特許 7250705 | Ｘ線スキャトロメトリでの深層構造のプロセスモニタリング | 2023年 4月 3日 | |
| 特許 7250785 | 極端に反ったウェハ用の基板ハンドリング装置 | 2023年 4月 3日 | |
| 特許 7250063 | 光学システム | 2023年 3月31日 | |
| 特許 7250064 | イメージング計量ターゲットおよび計量方法 | 2023年 3月31日 | |
| 特許 7244532 | 深紫外（ＤＵＶ）光学撮像システム向け任意波面補償器 | 2023年 3月22日 | |
| 特許 7241746 | 電子ビーム生成および測定 | 2023年 3月17日 | |
| 特許 7236435 | クリティカルディメンション測定用の検査ガイド付きクリティカルサイト選択 | 2023年 3月 9日 | |
| 特許 7236451 | 光陰極照射検査のためのシステム及び方法 | 2023年 3月 9日 | |
| 特許 7236473 | 多重散乱信号に基づく埋設粒子深度値域分類 | 2023年 3月 9日 | |
| 特許 7236481 | 計測モジュール、及び計測ターゲットの設計方法 | 2023年 3月 9日 | |
| 特許 7236515 | 電子源 | 2023年 3月 9日 |
92 件中 61-75 件を表示
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7257511 7254177 7254217 7253006 7250705 7250785 7250063 7250064 7244532 7241746 7236435 7236451 7236473 7236481 7236515
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