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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第382位 90件
（
2015年：第322位 112件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第324位 97件
（2015年：第225位 132件）
（ランキング更新日：2026年11月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5941463 | ＥＵＶ露光装置 | 2016年 6月29日 | |
| 特許 5933627 | リソグラフィ装置 | 2016年 6月15日 | |
| 特許 5931879 | リソグラフィシステム内のフレア効果の補正 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5932635 | リソグラフィ装置および検出装置 | 2016年 6月 8日 | |
| 特許 5921548 | リソグラフィ装置、ＥＵＶ放射発生装置、およびデバイス製造方法 | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5922838 | リソグラフィ装置用の回転フレームおよび投影システム | 2016年 5月24日 | |
| 特許 5919395 | 可動ステージシステム及びリソグラフィ装置 | 2016年 5月18日 | |
| 特許 5913979 | モデルベースのプロセスシミュレーション方法 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916696 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5916895 | リソグラフィ装置、セットポイントデータを提供する装置、デバイス製造方法、セットポイントデータを提供する方法、およびコンピュータプログラム | 2016年 5月11日 | |
| 特許 5908045 | メトロロジ装置、リソグラフィ装置、リソグラフィセル及びメトロロジ方法 | 2016年 4月26日 | |
| 特許 5905126 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2016年 4月20日 | |
| 特許 5898705 | 静電クランプ、リソグラフィ装置、および、デバイス製造方法 | 2016年 4月 6日 | |
| 特許 5897643 | 基板ホルダ、リソグラフィ装置、及び基板ホルダの製造方法 | 2016年 3月30日 | |
| 特許 5893014 | ＥＵＶ光源のためのプレパルスを有する主発振器−電力増幅器駆動レーザ | 2016年 3月23日 |
102 件中 61-75 件を表示
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5941463 5933627 5931879 5932635 5921548 5922838 5919395 5913979 5916696 5916895 5908045 5905126 5898705 5897643 5893014
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