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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2016年 出願公開件数ランキング 第382位 90件
（
2015年：第322位 112件）
■ 2016年 特許取得件数ランキング 第324位 97件
（2015年：第225位 132件）
（ランキング更新日：2026年10月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5973064 | 支持装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5973472 | リソグラフィ装置、放射ビームスポットフォーカスを測定するための方法、及びデバイス製造方法 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5973567 | 放射源、放射システム、リソグラフィ装置、および燃料液滴を捕集する方法 | 2016年 8月23日 | |
| 特許 5959618 | ＥＵＶ光源の熱作用を補償するためのシステム及び方法 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5959739 | リソグラフィクラスタシステム、測定装置、およびリソグラフィ装置の位置決めデバイスを較正するための方法 | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5960953 | 単一のプロセスウィンドウモデルを生成するためのシステム | 2016年 8月 2日 | |
| 特許 5957540 | 基板ホルダ製造方法 | 2016年 7月27日 | |
| 特許 5955423 | デブリ粒子を抑制するための放射線源装置、リソグラフィ装置、照明システム、および方法 | 2016年 7月20日 | |
| 特許 5951010 | 多層ミラー、多層ミラーを生成する方法およびリソグラフィ装置 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5951044 | 柔軟性基板を搬入する方法、デバイス製造方法、柔軟性基板を搬入するための装置、及びリソグラフィ装置 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5952274 | 光源焦点のアラインメント | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5952399 | 放射源、リソグラフィ装置のための方法及びデバイス製造方法 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5952926 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2016年 7月13日 | |
| 特許 5945632 | リソグラフィ装置、デバイス製造方法及び変位測定システム | 2016年 7月 5日 | |
| 特許 5940049 | 波面収差に対する応答を調整したパターン設計の方法及びシステム | 2016年 6月29日 |
102 件中 46-60 件を表示
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5973064 5973472 5973567 5959618 5959739 5960953 5957540 5955423 5951010 5951044 5952274 5952399 5952926 5945632 5940049
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