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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

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エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 5973064	支持装置、リソグラフィ装置及びデバイス製造方法	2016年 8月23日
特許 5973472	リソグラフィ装置、放射ビームスポットフォーカスを測定するための方法、及びデバイス製造方法	2016年 8月23日
特許 5973567	放射源、放射システム、リソグラフィ装置、および燃料液滴を捕集する方法	2016年 8月23日
特許 5959618	ＥＵＶ光源の熱作用を補償するためのシステム及び方法	2016年 8月 2日
特許 5959739	リソグラフィクラスタシステム、測定装置、およびリソグラフィ装置の位置決めデバイスを較正するための方法	2016年 8月 2日
特許 5960953	単一のプロセスウィンドウモデルを生成するためのシステム	2016年 8月 2日
特許 5957540	基板ホルダ製造方法	2016年 7月27日
特許 5955423	デブリ粒子を抑制するための放射線源装置、リソグラフィ装置、照明システム、および方法	2016年 7月20日
特許 5951010	多層ミラー、多層ミラーを生成する方法およびリソグラフィ装置	2016年 7月13日
特許 5951044	柔軟性基板を搬入する方法、デバイス製造方法、柔軟性基板を搬入するための装置、及びリソグラフィ装置	2016年 7月13日
特許 5952274	光源焦点のアラインメント	2016年 7月13日
特許 5952399	放射源、リソグラフィ装置のための方法及びデバイス製造方法	2016年 7月13日
特許 5952926	リソグラフィ装置およびデバイス製造方法	2016年 7月13日
特許 5945632	リソグラフィ装置、デバイス製造方法及び変位測定システム	2016年 7月 5日
特許 5940049	波面収差に対する応答を調整したパターン設計の方法及びシステム	2016年 6月29日

102 件中 46-60 件を表示

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5973064 5973472 5973567 5959618 5959739 5960953 5957540 5955423 5951010 5951044 5952274 5952399 5952926 5945632 5940049

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