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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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  2020年 出願公開件数ランキング    第286位 138件 下降2019年:第272位 151件)

  2020年 特許取得件数ランキング    第237位 122件 上昇2019年:第255位 108件)

(ランキング更新日:2025年5月23日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 6649463 リソグラフィ装置及びリソグラフィ装置を用いてデバイスを製造する方法 2020年 2月19日
特許 6646576 放射源 2020年 2月14日
特許 6647282 放射源を監視するためのデバイス、放射源、放射源を監視する方法、デバイス製造方法 2020年 2月14日
特許 6648266 基板ホルダ、リソグラフィ装置、及びデバイスを製造する方法 2020年 2月14日
特許 6643337 リフレクタ 2020年 2月12日
特許 6644891 アクティブベースフレームサポートを有するリソグラフィ装置 2020年 2月12日
特許 6644898 構造を測定する方法、検査装置、リソグラフィシステム、デバイス製造方法、およびそれらで使用する波長選択フィルタ 2020年 2月12日
特許 6644919 アライメント方法 2020年 2月12日
特許 6640236 レジスト変形を決定するための方法 2020年 2月 5日
特許 6641011 複数の荷電粒子ビームの装置 2020年 2月 5日
特許 6641422 プロセスウィンドウを最適化する方法 2020年 2月 5日
特許 6637188 基板ハンドリングシステムおよびリソグラフィ装置 2020年 1月29日
特許 6637943 リソグラフィパターニングプロセスおよび同プロセス内で使用するレジスト 2020年 1月29日
特許 6633686 リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造 2020年 1月22日
特許 6634429 リソグラフィ装置 2020年 1月22日

126 件中 106-120 件を表示

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6649463 6646576 6647282 6648266 6643337 6644891 6644898 6644919 6640236 6641011 6641422 6637188 6637943 6633686 6634429

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