特許ランキング - 出願人詳細情報 -

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．

※ ログインすれば出願人(エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第339位　109件（2020年：第286位　138件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第239位　120件（2020年：第237位　122件）

（ランキング更新日：2024年11月22日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年

エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 6839787	放射源	2021年 3月10日
特許 6837433	ペリクル取り付け装置及びペリクル取り付け方法	2021年 3月 3日
特許 6830097	膜アセンブリを製造する方法	2021年 2月17日
特許 6830104	水素輸送に対するバリアを有するＥＵＶ要素	2021年 2月17日
特許 6831364	ＬＰＰ　ＥＵＶ光源におけるソースレーザの発射を制御するためのシステム及び方法	2021年 2月17日
特許 6831784	リソグラフィ製造プロセスに関する診断情報を取得するための方法および装置、診断装置を含むリソグラフィックプロセシングシステム	2021年 2月17日
特許 6824985	ＥＵＶソースのためのノズル及び液滴発生器	2021年 2月 3日
特許 6824999	パターニングプロセスパラメータを決定する方法及び装置	2021年 2月 3日
特許 6826692	振動絶縁システムおよびリソグラフィ装置	2021年 2月 3日
特許 6820747	レーザ光源における光電磁センサの較正	2021年 1月27日
特許 6817468	センサ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法	2021年 1月20日
特許 6818129	デバイスを製造するリソグラフィ装置及び方法	2021年 1月20日
特許 6818881	圧力制御弁、リソグラフィ装置のための流体ハンドリング構造、及びリソグラフィ装置	2021年 1月20日
特許 6812450	パターン形成プロセスを制御する方法、リソグラフィ装置、メトロロジ装置リソグラフィックセル、および関連するコンピュータプログラム	2021年 1月13日
特許 6806841	基板支持体、基板支持ロケーションに基板を搭載するための方法、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法	2021年 1月 6日

123 件中 106-120 件を表示

... 8

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

6839787 6837433 6830097 6830104 6831364 6831784 6824985 6824999 6826692 6820747 6817468 6818129 6818881 6812450 6806841

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。エーエスエムエル　ネザーランズ　ビー．ブイ．の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数