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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6872519 | レーザ作動光源 | 2021年 5月19日 | |
特許 6872593 | 計測方法、コンピュータ製品およびシステム | 2021年 5月19日 | |
特許 6874137 | エキシマ光源におけるスペックルの低減 | 2021年 5月19日 | |
特許 6868109 | リソグラフィ装置及びデバイスを製造する方法 | 2021年 5月12日 | |
特許 6868571 | リソグラフィ装置 | 2021年 5月12日 | |
特許 6869242 | リソグラフィ装置のためのEUVソースチャンバーおよびガス流れ様式、多層ミラー、およびリソグラフィ装置 | 2021年 5月12日 | |
特許 6869359 | パターンの位置決め精度を高めるための方法及びシステム | 2021年 5月12日 | |
特許 6871251 | ペリクル及びペリクルアセンブリ | 2021年 5月12日 | |
特許 6871740 | 露光プロセスにおける露光誤差を補償するための方法 | 2021年 5月12日 | |
特許 6864725 | 極端紫外光源用搬送システム | 2021年 4月28日 | |
特許 6866463 | ターゲット材料を供給するための装置及び方法 | 2021年 4月28日 | |
特許 6861683 | 変調装置およびそれを使用する荷電粒子マルチ小ビームリソグラフィシステム | 2021年 4月21日 | |
特許 6862543 | モータアセンブリ、リソグラフィ装置、及びデバイス製造方法 | 2021年 4月21日 | |
特許 6864096 | 計測センサ、リソグラフィ装置および内でのデバイス製造方法 | 2021年 4月21日 | |
特許 6856758 | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 | 2021年 4月14日 |
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6872519 6872593 6874137 6868109 6868571 6869242 6869359 6871251 6871740 6864725 6866463 6861683 6862543 6864096 6856758
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12月1日(日) -
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