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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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（
2020年：第258位 138件）
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件
（2020年：第236位 122件）
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 6858777 | ＥＵＶリソグラフィのための膜 | 2021年 4月14日 | |
| 特許 6858817 | リソグラフィ装置内で用いられる膜及びそのような膜を含むリソグラフィ装置 | 2021年 4月14日 | |
| 特許 6854327 | リソグラフィ装置 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6854914 | リソグラフィ方法及び装置 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6855565 | メトロロジレシピ選択 | 2021年 4月 7日 | |
| 特許 6852183 | センサマークおよびセンサマークの製造方法 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6853383 | アクチュエータ、リニアモータ及びリソグラフィ装置 | 2021年 3月31日 | |
| 特許 6845832 | ターゲット材料の供給および回収のための方法ならびに装置 | 2021年 3月24日 | |
| 特許 6843038 | ＥＵＶ光源内のシードレーザをブラッグＡＯＭで保護するためのシステム及び方法 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6845035 | 極紫外放射源 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6845245 | 液滴ジェネレータ及びレーザ生成プラズマ放射源 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6845272 | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6845305 | 位置決めシステムおよびリソグラフィ装置 | 2021年 3月17日 | |
| 特許 6839718 | パターニングプロセスパラメータを決定するための方法及び装置 | 2021年 3月10日 | |
| 特許 6839720 | スタック差の決定及びスタック差を用いた補正 | 2021年 3月10日 |
123 件中 91-105 件を表示
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6858777 6858817 6854327 6854914 6855565 6852183 6853383 6845832 6843038 6845035 6845245 6845272 6845305 6839718 6839720
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