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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第339位 109件
(2020年:第286位 138件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件
(2020年:第237位 122件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6945010 | ターゲットを測定する方法、メトロロジ装置、リソグラフィセル及びターゲット | 2021年10月 6日 | |
特許 6946432 | 回転防止レンズ及びその調整方法並びにマルチビーム装置 | 2021年10月 6日 | |
特許 6940529 | デブリ低減システム、放射源及びリソグラフィ装置 | 2021年 9月29日 | |
特許 6942224 | 測定基板および測定方法 | 2021年 9月29日 | |
特許 6934541 | メトロロジパラメータ決定及びメトロロジレシピ選択 | 2021年 9月15日 | |
特許 6934560 | 荷電粒子遮断要素、このような要素を備えた露光装置、及びこのような露光装置を使用する方法 | 2021年 9月15日 | |
特許 6933725 | 測定方法、デバイス製造方法、計測装置およびリソグラフィシステム | 2021年 9月 8日 | |
特許 6928609 | EUV容器及びEUVコレクタのターゲット材料デブリクリーニングのためのシステム、方法、及び装置 | 2021年 9月 1日 | |
特許 6929910 | 陰極構成体、電子銃、及びこのような電子銃を有するリソグラフィシステム | 2021年 9月 1日 | |
特許 6931119 | パターニングプロセスパラメータを決定する方法 | 2021年 9月 1日 | |
特許 6931317 | アライメントセンサーとビーム測定センサーを備えている荷電粒子リソグラフィシステム | 2021年 9月 1日 | |
特許 6920311 | 自由電子レーザ用電子源 | 2021年 8月18日 | |
特許 6920474 | リソグラフィ装置の焦点性能を測定するための方法並びにパターニングデバイス及び装置、デバイス製造方法 | 2021年 8月18日 | |
特許 6920545 | フィールドプログラマブル検出器アレイ | 2021年 8月18日 | |
特許 6921243 | 測定方法の性能を予測する方法及び装置、測定方法及び装置 | 2021年 8月18日 |
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6945010 6946432 6940529 6942224 6934541 6934560 6933725 6928609 6929910 6931119 6931317 6920311 6920474 6920545 6921243
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