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■ 2021年 出願公開件数ランキング 第339位 109件
(2020年:第286位 138件)
■ 2021年 特許取得件数ランキング 第239位 120件
(2020年:第237位 122件)
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6917472 | メトロロジセンサ、リソグラフィ装置、及びデバイスを製造するための方法 | 2021年 8月11日 | |
特許 6917477 | リソグラフィ装置及びリソグラフィ方法 | 2021年 8月11日 | |
特許 6917479 | システム、リソグラフィ装置、及び基板サポート上における酸化の低減又は酸化物の除去方法 | 2021年 8月11日 | |
特許 6917523 | 基板ホルダおよび基板ホルダを製造する方法 | 2021年 8月11日 | |
特許 6918926 | 装置マークのインシチュプリンティングを含む計測方法及び対応する装置 | 2021年 8月11日 | |
特許 6915094 | セットポイントジェネレータ、リソグラフィ装置、リソグラフィ装置の操作方法、及びデバイス製造方法 | 2021年 8月 4日 | |
特許 6908693 | 構造の特性を決定する方法、検査装置、及びデバイス、製造方法 | 2021年 7月28日 | |
特許 6909865 | メトロロジセンサ、リソグラフィ装置、及びデバイスを製造するための方法 | 2021年 7月28日 | |
特許 6909873 | アライメント測定システム | 2021年 7月28日 | |
特許 6906058 | 機械学習によるプロセスモデルの決定方法 | 2021年 7月21日 | |
特許 6907314 | 測定方法の性能を予測するための方法及び装置、測定方法及び装置 | 2021年 7月21日 | |
特許 6903131 | リソグラフィプロセスのパラメータを測定する方法及び装置、そのような方法及び装置を実施するためのコンピュータプログラム製品 | 2021年 7月14日 | |
特許 6903647 | 膜アセンブリを製造するための方法 | 2021年 7月14日 | |
特許 6898304 | 減衰装置及び方法 | 2021年 7月 7日 | |
特許 6898464 | ベアリングデバイス、磁気重力補償器、振動絶縁システム、リソグラフィ装置 | 2021年 7月 7日 |
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6917472 6917477 6917479 6917523 6918926 6915094 6908693 6909865 6909873 6906058 6907314 6903131 6903647 6898304 6898464
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9月12日(金) -
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