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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
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■ 2022年 出願公開件数ランキング 第222位 169件
（
2021年：第339位 109件）
■ 2022年 特許取得件数ランキング 第259位 122件
（
2021年：第239位 120件）
（ランキング更新日：2025年4月15日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7169302 | 極端紫外線光源のための供給システム | 2022年11月10日 | |
| 特許 7169435 | 位置計測用メトロロジセンサ | 2022年11月10日 | |
| 特許 7169452 | マルチビーム検査装置 | 2022年11月10日 | |
| 特許 7167371 | 後方散乱粒子による埋め込みフィーチャの検出 | 2022年11月 8日 | |
| 特許 7166315 | ラジカルを輸送するための装置および方法 | 2022年11月 7日 | |
| 特許 7165195 | メトロロジプロセスを最適化する方法 | 2022年11月 2日 | |
| 特許 7164605 | リソグラフィ装置で使用するための基板ホルダ | 2022年11月 1日 | |
| 特許 7162666 | 像面検出技術を使用して対象のパラメータを測定するための方法及び装置 | 2022年10月28日 | |
| 特許 7162738 | 構造物及び関連装置の検査方法及び装置 | 2022年10月28日 | |
| 特許 7160681 | 極端紫外光源におけるオブジェクト上のプラズマの効果の軽減 | 2022年10月25日 | |
| 特許 7159290 | 材料経路を進む材料を捕捉するためのレセプタクル | 2022年10月24日 | |
| 特許 7155148 | リソグラフィ装置および冷却方法 | 2022年10月18日 | |
| 特許 7154355 | 荷電粒子ビームシステムにおける汚染の除去及び／又は回避のための方法及びシステム | 2022年10月17日 | |
| 特許 7153641 | 光学システムにおける物理的効果の補償 | 2022年10月14日 | |
| 特許 7153753 | 極端紫外光源用搬送システム | 2022年10月14日 |
126 件中 16-30 件を表示
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7169302 7169435 7169452 7167371 7166315 7165195 7164605 7162666 7162738 7160681 7159290 7155148 7154355 7153641 7153753
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