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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7047076 | 荷電粒子のビーム状態を調節するための方法及び装置 | 2022年 4月 4日 | |
特許 7044888 | リソグラフィ方法および装置 | 2022年 3月30日 | |
特許 7043493 | 放射分析システム | 2022年 3月29日 | |
特許 7043587 | 荷電粒子の複数のビームを用いたサンプル検査の方法 | 2022年 3月29日 | |
特許 7041643 | 露光装置 | 2022年 3月24日 | |
特許 7041717 | 基板テーブル、リソグラフィ装置、及びリソグラフィ装置を操作する方法 | 2022年 3月24日 | |
特許 7040878 | アライメントセンサーとビーム測定センサーを備えている荷電粒子リソグラフィシステム | 2022年 3月23日 | |
特許 7041208 | 荷電粒子源モジュール、荷電粒子源モジュールを備えた露光システム、荷電粒子源配置、半導体デバイスを製造する方法、及びターゲットを検査する方法 | 2022年 3月23日 | |
特許 7038666 | 測定システム、較正方法、リソグラフィ装置及びポジショナ | 2022年 3月18日 | |
特許 7038723 | 荷電粒子検出のための方法及び装置 | 2022年 3月18日 | |
特許 7038737 | アライメントの測定のためのシステム及び方法 | 2022年 3月18日 | |
特許 7037606 | マスクアセンブリ | 2022年 3月16日 | |
特許 7034200 | マスク | 2022年 3月11日 | |
特許 7031032 | 位置測定システム、ゼロ調整方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 | 2022年 3月 7日 | |
特許 7022111 | 半導体製造歩留まりを向上させるための方法 | 2022年 2月17日 |
126 件中 91-105 件を表示
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7047076 7044888 7043493 7043587 7041643 7041717 7040878 7041208 7038666 7038723 7038737 7037606 7034200 7031032 7022111
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