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エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

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  2022年 出願公開件数ランキング    第222位 169件 上昇2021年:第339位 109件)

  2022年 特許取得件数ランキング    第259位 122件 下降2021年:第239位 120件)

(ランキング更新日:2025年4月14日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7047076 荷電粒子のビーム状態を調節するための方法及び装置 2022年 4月 4日
特許 7044888 リソグラフィ方法および装置 2022年 3月30日
特許 7043493 放射分析システム 2022年 3月29日
特許 7043587 荷電粒子の複数のビームを用いたサンプル検査の方法 2022年 3月29日
特許 7041643 露光装置 2022年 3月24日
特許 7041717 基板テーブル、リソグラフィ装置、及びリソグラフィ装置を操作する方法 2022年 3月24日
特許 7040878 アライメントセンサーとビーム測定センサーを備えている荷電粒子リソグラフィシステム 2022年 3月23日
特許 7041208 荷電粒子源モジュール、荷電粒子源モジュールを備えた露光システム、荷電粒子源配置、半導体デバイスを製造する方法、及びターゲットを検査する方法 2022年 3月23日
特許 7038666 測定システム、較正方法、リソグラフィ装置及びポジショナ 2022年 3月18日
特許 7038723 荷電粒子検出のための方法及び装置 2022年 3月18日
特許 7038737 アライメントの測定のためのシステム及び方法 2022年 3月18日
特許 7037606 マスクアセンブリ 2022年 3月16日
特許 7034200 マスク 2022年 3月11日
特許 7031032 位置測定システム、ゼロ調整方法、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 2022年 3月 7日
特許 7022111 半導体製造歩留まりを向上させるための方法 2022年 2月17日

126 件中 91-105 件を表示

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7047076 7044888 7043493 7043587 7041643 7041717 7040878 7041208 7038666 7038723 7038737 7037606 7034200 7031032 7022111

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