ソイテック
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■ 2017年 出願公開件数ランキング 第3286位 6件
（
2016年：第1441位 17件）
■ 2017年 特許取得件数ランキング 第2245位 7件
（
2016年：第2983位 5件）
（ランキング更新日：2025年6月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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ソイテックの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特表 2017-532781 | 異なる歪み状態を有するトランジスタチャネルを含む半導体層を製作する方法及び関連半導体層 | 2017年11月 2日 | |
| 特開 2017-129569 | 欠陥を検出するための方法及び関連する装置 | 2017年 7月27日 | |
| 特開 2017-126746 | 構造の表面を平滑化するためのプロセス | 2017年 7月20日 | |
| 特表 2017-517901 | フィン緩和を含む半導体デバイスを製造するための方法および関連する構造 | 2017年 6月29日 | |
| 特開 2017-11262 | 高抵抗率半導体オンインシュレータ基板の製造方法 | 2017年 1月12日 | |
| 特開 2017-5245 | 二重層転写のための機械的分離の方法 | 2017年 1月 5日 |
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2017-532781 2017-129569 2017-126746 2017-517901 2017-11262 2017-5245
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