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　■　2017年出願公開件数ランキング　　　第3286位　6件（2016年：第1441位　17件）

　■　2017年特許取得件数ランキング　　　第2245位　7件（2016年：第2983位　5件）

（ランキング更新日：2025年5月1日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2017-532781	異なる歪み状態を有するトランジスタチャネルを含む半導体層を製作する方法及び関連半導体層	2017年11月 2日
特開 2017-129569	欠陥を検出するための方法及び関連する装置	2017年 7月27日
特開 2017-126746	構造の表面を平滑化するためのプロセス	2017年 7月20日
特表 2017-517901	フィン緩和を含む半導体デバイスを製造するための方法および関連する構造	2017年 6月29日
特開 2017-11262	高抵抗率半導体オンインシュレータ基板の製造方法	2017年 1月12日
特開 2017-5245	二重層転写のための機械的分離の方法	2017年 1月 5日

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2017-532781 2017-129569 2017-126746 2017-517901 2017-11262 2017-5245

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