特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ソイテック

※ ログインすれば出願人(ソイテック)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2021年出願公開件数ランキング　　　第1675位　14件（2020年：第1844位　12件）

　■　2021年特許取得件数ランキング　　　第4240位　3件（2020年：第1779位　9件）

（ランキング更新日：2026年2月13日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2022年 2023年 2024年 2025年 2026年

ソイテックの商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特表 2021-532567	集積された高周波デバイスのための基板及びそれを製造するための方法	2021年11月25日
特表 2021-527954	前面撮像素子及びそのような撮像素子を製造するための方法	2021年10月14日
特表 2021-518320	ＧａＡｓ材料の単結晶層を製造するための方法、及びＧａＡｓ材料の単結晶層をエピタキシャル成長させるための基板	2021年 8月 2日
特表 2021-518321	ＰＺＴ材料の結晶層を製造するための方法、及びＰＺＴ材料の結晶層をエピタキシャル成長させるための基板	2021年 8月 2日
特表 2021-518322	ダイヤモンド又はイリジウム材料の単結晶層を製造するための方法、及びダイヤモンド又はイリジウム材料の単結晶層をエピタキシャル成長させるための基板	2021年 8月 2日
特表 2021-518323	ＬＮＯ材料の単結晶層を生成するための方法、及びＬＮＯ材料の単結晶層をエピタキシャル成長させるための基板	2021年 8月 2日
特表 2021-518324	ＡｌＮ材料の単結晶膜を生成するための方法、及びＡｌＮ材料の単結晶膜をエピタキシャル成長させるための基板	2021年 8月 2日
特表 2021-518663	層を転写するための方法	2021年 8月 2日
特表 2021-517384	表面弾性波デバイス用のハイブリッド構造及び関連する製造方法	2021年 7月15日
特表 2021-516864	高周波用途のための基板及び関連付けられた製造方法	2021年 7月 8日
特表 2021-513735	剥離可能な構造及び前記構造を使用する剥離プロセス	2021年 5月27日
特開 2021-82828	基板の表面の金属汚染物を減少させるための方法	2021年 5月27日
特表 2021-513211	層移転により半導体オンインシュレータ型構造を製造するための方法	2021年 5月20日
特表 2021-511219	微細機械加工素子のアレイを含むデバイスを設計及び製造するためのプロセス、そのようなプロセスの最後に得られるデバイス	2021年 5月 6日

14 件中 1-14 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

2021-532567 2021-527954 2021-518320 2021-518321 2021-518322 2021-518323 2021-518324 2021-518663 2021-517384 2021-516864 2021-513735 2021-82828 2021-513211 2021-511219

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ソイテックの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2026年特許出願件数	2026年特許取得件数
2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数