特許ランキング - 出願人詳細情報 -

ギガフォトン株式会社

※ ログインすれば出願人(ギガフォトン株式会社)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2023年出願公開件数ランキング　　　第1402位　17件（2022年：第1474位　16件）

　■　2023年特許取得件数ランキング　　　第779位　31件（2022年：第933位　24件）

（ランキング更新日：2025年10月16日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2024年 2025年

ギガフォトン株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7311296	ＥＵＶチャンバ装置、極端紫外光生成システム、及び電子デバイスの製造方法	2023年 7月19日
特許 7306888	極端紫外光生成システム、レーザビームサイズ制御方法及び電子デバイスの製造方法	2023年 7月11日
特許 7292387	レーザアニール装置及び電子デバイスの製造方法	2023年 6月16日
特許 7283686	高電圧パルス発生装置、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法	2023年 5月30日
特許 7275248	狭帯域化モジュール、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法	2023年 5月17日
特許 7273944	レーザ用チャンバ装置、ガスレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法	2023年 5月15日
特許 7270652	レーザ加工装置及び被加工物の加工方法	2023年 5月10日
特許 7261683	極端紫外光生成システム及び電子デバイスの製造方法	2023年 4月20日
特許 7258028	リソグラフィシステムのメインテナンス管理方法、メインテナンス管理装置、及びコンピュータ可読媒体	2023年 4月14日
特許 7252214	レーザガス再生装置及び電子デバイスの製造方法	2023年 4月 4日
特許 7252220	光パルスストレッチャー、レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法	2023年 4月 4日
特許 7244436	エキシマレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法	2023年 3月22日
特許 7239485	エキシマレーザ装置、及び電子デバイスの製造方法	2023年 3月14日
特許 7231560	光学素子の移動装置、狭帯域化レーザ装置、及び電子デバイスの製造方法	2023年 3月 1日
特許 7231614	レーザガス管理システム、電子デバイスの製造方法及びエキシマレーザシステムの制御方法	2023年 3月 1日

32 件中 16-30 件を表示

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

7311296 7306888 7292387 7283686 7275248 7273944 7270652 7261683 7258028 7252214 7252220 7244436 7239485 7231560 7231614

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。ギガフォトン株式会社の知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2014年特許出願件数	2014年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数