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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第195位 221件 (2010年:第150位 334件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第419位 79件 (2010年:第455位 62件)
(ランキング更新日:2025年1月17日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 4615182 | 半導体ウェーハの製造方法 | 2011年 1月19日 | |
特許 4604734 | ウェーハの評価方法 | 2011年 1月 5日 | |
特許 4604462 | 単結晶内酸素析出核の密度分布及びサイズ分布のシミュレーション方法 | 2011年 1月 5日 | |
特許 4604889 | シリコンウェーハの製造方法、並びにシリコン単結晶育成方法 | 2011年 1月 5日 |
79 件中 76-79 件を表示
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4615182 4604734 4604462 4604889
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