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■ 2023年 出願公開件数ランキング 第512位 61件
(
2022年:第539位 58件)
■ 2023年 特許取得件数ランキング 第372位 84件
(
2022年:第278位 113件)
(ランキング更新日:2026年2月4日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 7400667 | シリコンウェーハの検査方法、シリコンウェーハの製造方法 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7400683 | 横型熱処理炉を用いたシリコンウェーハの熱処理方法 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7400835 | 石英ガラスルツボ及びその製造方法 | 2023年12月19日 | |
| 特許 7396253 | 差圧測定方法 | 2023年12月12日 | |
| 特許 7388324 | ウェーハの片面研磨方法、ウェーハの製造方法、およびウェーハの片面研磨装置 | 2023年11月29日 | |
| 特許 7388333 | 単結晶引き上げ装置のワイヤー振れ止め機構 | 2023年11月29日 | |
| 特許 7380179 | 多層SOIウェーハ及びその製造方法並びにX線検出センサ | 2023年11月15日 | |
| 特許 7380872 | 横型熱処理炉を用いたシリコンウェーハの熱処理方法 | 2023年11月15日 | |
| 特許 7375716 | 単結晶シリコンブロックの結晶欠陥に関する品質評価方法、単結晶シリコンブロックの品質評価プログラム、単結晶シリコンブロックの製造方法およびシリコンウェーハの製造方法 | 2023年11月 8日 | |
| 特許 7375831 | ウェーハ製造システム | 2023年11月 8日 | |
| 特許 7375833 | 石英ガラスルツボ | 2023年11月 8日 | |
| 特許 7363127 | 半導体ウェーハの厚み測定方法 | 2023年10月18日 | |
| 特許 7363762 | シリコン試料の炭素濃度評価方法、シリコンウェーハ製造工程の評価方法、シリコンウェーハの製造方法およびシリコン単結晶インゴットの製造方法 | 2023年10月18日 | |
| 特許 7363978 | ウェーハ研磨条件の決定方法、ウェーハの製造方法およびウェーハ片面研磨システム | 2023年10月18日 | |
| 特許 7359241 | シリコン単結晶の製造方法 | 2023年10月11日 |
84 件中 1-15 件を表示
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7400667 7400683 7400835 7396253 7388324 7388333 7380179 7380872 7375716 7375831 7375833 7363127 7363762 7363978 7359241
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