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■ 2020年 出願公開件数ランキング 第356位 104件
(2019年:第321位 122件)
■ 2020年 特許取得件数ランキング 第290位 95件
(2019年:第185位 146件)
(ランキング更新日:2025年4月3日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 6801682 | 半導体エピタキシャルウェーハの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 | 2020年12月16日 | |
特許 6794977 | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法およびエピタキシャルシリコンウェーハ | 2020年12月 2日 | |
特許 6791293 | エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 | 2020年11月25日 | |
特許 6791321 | シリコン接合ウェーハ | 2020年11月25日 | |
特許 6784986 | スプレーチャンバー、試料霧化導入装置、分析装置および試料中の成分分析方法 | 2020年11月18日 | |
特許 6786905 | シリコン単結晶の製造方法 | 2020年11月18日 | |
特許 6787268 | 半導体エピタキシャルウェーハおよびその製造方法、ならびに固体撮像素子の製造方法 | 2020年11月18日 | |
特許 6777029 | シリコンウェーハ及びその製造方法 | 2020年10月28日 | |
特許 6770721 | シリカガラスルツボ、シリカガラスルツボの製造方法およびシリコン単結晶の引き上げ装置 | 2020年10月21日 | |
特許 6772498 | 基板収納容器 | 2020年10月21日 | |
特許 6772876 | 回転装置、並びに該回転装置を備える両面研磨装置及び片面研磨装置 | 2020年10月21日 | |
特許 6772966 | エピタキシャル成長用の半導体ウェーハの製造方法及び半導体エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2020年10月21日 | |
特許 6772977 | シリコン単結晶引上げ装置及び単結晶シリコンインゴットの製造方法 | 2020年10月21日 | |
特許 6772995 | SOIウェーハの製造方法およびSOIウェーハ | 2020年10月21日 | |
特許 6773011 | シリコン単結晶のBMD評価方法およびシリコン単結晶の製造方法 | 2020年10月21日 |
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6801682 6794977 6791293 6791321 6784986 6786905 6787268 6777029 6770721 6772498 6772876 6772966 6772977 6772995 6773011
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4月4日(金) -
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4月11日(金) -
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