信越半導体株式会社
※ ログインすれば出願人(信越半導体株式会社)をリストに登録できます。ログインについて
■ 2012年 出願公開件数ランキング 第404位 100件
（
2011年：第330位 120件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第234位 161件
（
2011年：第254位 138件）
（ランキング更新日：2025年1月17日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
2011年 2013年 2014年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年
信越半導体株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4978544 | エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4978396 | エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4978642 | 単結晶製造装置および単結晶の製造方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4978610 | 黒鉛部材のライフの評価方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4978877 | 発光素子の製造方法及び発光素子 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4978608 | エピタキシャルウエーハの製造方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4978583 | 評価用ウエーハ及びその製造方法並びに半導体ウエーハの評価方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4978577 | 発光素子の製造方法 | 2012年 7月18日 | |
| 特許 4973986 | ＳｉＣ被覆のピンホール有無判定方法 | 2012年 7月11日 | |
| 特許 4974043 | 発光素子およびその製造方法 | 2012年 7月11日 | |
| 特許 4973888 | 発光素子及びその製造方法 | 2012年 7月11日 | |
| 特許 4973629 | 基板処理装置及びシリコン基板の不純物分析方法 | 2012年 7月11日 | |
| 特許 4965949 | 切断方法 | 2012年 7月 4日 | 共同出願 |
| 特許 4962829 | エピタキシャルウェーハの製造方法 | 2012年 6月27日 | |
| 特許 4962406 | シリコン単結晶の育成方法 | 2012年 6月27日 |
161 件中 91-105 件を表示
※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。
このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー
4978544 4978396 4978642 4978610 4978877 4978608 4978583 4978577 4973986 4974043 4973888 4973629 4965949 4962829 4962406
※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。信越半導体株式会社の知財の動向チェックに便利です。
特許ランキング
1月20日(月) -
1月20日(月) - 大阪 大阪市
1月21日(火) -
1月21日(火) -
1月21日(火) - 東京 港区
1月21日(火) - 大阪 大阪市
1月22日(水) - 東京 港区
1月22日(水) -
1月22日(水) -
1月22日(水) - 大阪 大阪市
1月22日(水) - 東京 千代田区
1月22日(水) -
1月22日(水) -
1月22日(水) -
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月23日(木) - 東京 港区
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月23日(木) -
1月24日(金) - 東京 港区
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月24日(金) -
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月24日(金) - 大阪 大阪市
1月24日(金) - 神奈川 川崎市
1月24日(金) - 東京 千代田区
1月20日(月) -
1月27日(月) - 東京 港区
1月28日(火) - 東京 港区
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) -
1月28日(火) - 大阪 大阪市
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 港区
1月29日(水) - 東京 品川区
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月29日(水) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) -
1月30日(木) - 東京 港区
1月31日(金) -
1月27日(月) - 東京 港区
特許事務所紹介 IP Force 特許事務所紹介
〒243-0021 神奈川県厚木市岡田３０５０ 厚木アクストメインタワー３階Ｂ－１ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国意匠 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
〒564-0051 大阪府吹田市豊津町1番18号 エクラート江坂ビル４Ｆ 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標
愛知県名古屋市天白区中平三丁目2702番地 グランドールＳ 203号 特許・実用新案 意匠 商標 外国特許 外国商標 訴訟 鑑定 コンサルティング
