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信越半導体株式会社

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信越半導体株式会社の商標一覧

公報番号	発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)	公報発行日
特許 7605152	高周波デバイス用基板、及びその製造方法	2024年12月24日
特許 7605096	電極の面積を求める方法及び抵抗率測定方法	2024年12月24日
特許 7597081	電子デバイス用基板及びその製造方法	2024年12月10日
特許 7586012	シリコンインゴットの表面処理方法、加工方法、シリコンブロックの保管方法、シリコンウェーハの製造方法及びシリコンインゴット	2024年11月19日
特許 7584471	デブリ判定方法	2024年11月15日
特許 7582252	抵抗率測定装置及び抵抗率測定方法	2024年11月13日
特許 7582161	シリコンウェーハの評価方法及びシリコンウェーハの加工変質層除去方法	2024年11月13日
特許 7582057	シリコンウェーハの洗浄方法及びシリコンウェーハの製造方法	2024年11月13日
特許 7578063	洗浄処理装置	2024年11月 6日
特許 7571854	欠陥検査方法	2024年10月23日
特許 7571618	原料融液の表面の状態の検出方法、単結晶の製造方法、及びＣＺ単結晶製造装置	2024年10月23日
特許 7571691	シリコンウェーハの洗浄方法および製造方法、並びに洗浄液中の過酸化水素濃度評価方法および過酸化水素濃度管理方法	2024年10月23日
特許 7571710	シリコンウェーハの洗浄方法及び自然酸化膜付きシリコンウェーハの製造方法	2024年10月23日
特許 7567747	シリコン単結晶ウェーハの欠陥の種類の特定方法	2024年10月16日
特許 7567681	評価用密閉収納容器、および密閉収納容器のダストの評価方法	2024年10月16日

70 件中 1-15 件を表示

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7605152 7605096 7597081 7586012 7584471 7582252 7582161 7582057 7578063 7571854 7571618 7571691 7571710 7567747 7567681

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