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信越半導体株式会社

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  2023年 出願公開件数ランキング    第386位 87件 上昇2022年:第428位 76件)

  2023年 特許取得件数ランキング    第364位 86件 上昇2022年:第392位 75件)

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7405070 エピタキシャルウェーハの欠陥評価方法 2023年12月26日
特許 7400634 SOI基板及びSOI基板の製造方法 2023年12月19日
特許 7400663 シリコン単結晶基板中の水素濃度の評価方法 2023年12月19日
特許 7400789 窒化物半導体ウェーハの製造方法、及び窒化物半導体ウェーハ 2023年12月19日
特許 7392578 高周波半導体装置の製造方法及び高周波半導体装置 2023年12月 6日
特許 7392617 半導体ウェーハの反りの測定方法及び測定装置 2023年12月 6日
特許 7388373 洗浄後の多結晶シリコン原料の保管容器、保管装置、及び保管方法 2023年11月29日
特許 7388422 窒化物半導体基板の製造方法 2023年11月29日
特許 7388434 シリコン単結晶ウェーハの製造方法及びシリコン単結晶ウェーハ 2023年11月29日
特許 7384264 エピタキシャル成長用シリコンウェーハ及びエピタキシャルウェーハ 2023年11月21日
特許 7380492 研磨用組成物及びウェーハの加工方法 2023年11月15日
特許 7380517 SOIウェーハの製造方法及びSOIウェーハ 2023年11月15日
特許 7380526 シールガスケットの取り付け方法 2023年11月15日
特許 7367743 接合型半導体ウェーハの製造方法 2023年10月24日
特許 7368336 紫外線発光素子用金属貼り合わせ基板の製造方法、及び紫外線発光素子の製造方法 2023年10月24日

87 件中 1-15 件を表示

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7405070 7400634 7400663 7400789 7392578 7392617 7388373 7388422 7388434 7384264 7380492 7380517 7380526 7367743 7368336

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