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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第437位 89件
(2011年:第539位 67件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第478位 72件
(2011年:第817位 34件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特開 2012-256921 | 光学結像装置 | 2012年12月27日 | |
特表 2012-533871 | マイクロリソグラフィ投影露光装置及びそこに収容される光学面に関連するパラメータを測定する方法 | 2012年12月27日 | |
特開 2012-256944 | 光学面から汚染層を除去するための方法、洗浄ガスを生成するための方法、ならびに対応する洗浄および洗浄ガス生成の構造 | 2012年12月27日 | 共同出願 |
特表 2012-533095 | コーティングを有するマイクロミラー構成体及びコーティングを作製する方法 | 2012年12月20日 | |
特表 2012-533180 | マイクロリソグラフィ投影露光装置においてマスクを照明するための照明系 | 2012年12月20日 | |
特開 2012-248849 | 照明光学ユニットを設定する方法及び装置 | 2012年12月13日 | |
特表 2012-532467 | EUV波長域用のミラー、当該ミラーを備えるマイクロリソグラフィ用の投影対物レンズ、及び当該対物レンズを備えるマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | 2012年12月13日 | |
特開 2012-244184 | 投影露光装置の照明光学ユニットの瞳ファセットミラーの瞳ファセットを照明光学ユニットの視野ファセットミラーの視野ファセットに割り当てる方法 | 2012年12月10日 | |
特表 2012-531055 | 物体視野を像視野に結像するための結像光学系及び物体視野を照明するための照明光学系 | 2012年12月 6日 | |
特開 2012-234214 | 反射屈折投影対物レンズ | 2012年11月29日 | |
特開 2012-234827 | 粒子光学部品 | 2012年11月29日 | 共同出願 |
特開 2012-216826 | パターンの重ね合わせによる結像光学系の測定 | 2012年11月 8日 | |
特開 2012-212910 | 取扱い可能な絞り又は開口絞りを備えたマイクロリソグラフィー投影光学系 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-212884 | 調整機能を最適化した投影露光装置 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-212890 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム | 2012年11月 1日 |
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2012-256921 2012-533871 2012-256944 2012-533095 2012-533180 2012-248849 2012-532467 2012-244184 2012-531055 2012-234214 2012-234827 2012-216826 2012-212910 2012-212884 2012-212890
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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