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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第437位 89件
(2011年:第539位 67件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第478位 72件
(2011年:第817位 34件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-212910 | 取扱い可能な絞り又は開口絞りを備えたマイクロリソグラフィー投影光学系 | 2012年11月 1日 | |
特開 2012-209584 | マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系 | 2012年10月25日 | |
特表 2012-526368 | 浸液蒸発作用の低い光学結像 | 2012年10月25日 | |
特開 2012-198197 | 光学試験表面の形状を判定する方法及び装置 | 2012年10月18日 | |
特表 2012-524391 | EUV波長域用のミラー、そのようなミラーを備えるマイクロリソグラフィ用の投影対物鏡、およびそのような投影対物鏡を備えるマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | 2012年10月11日 | |
特開 2012-190041 | 光学素子操作装置 | 2012年10月 4日 | |
特開 2012-186508 | マイクロリソグラフィ投影対物レンズ | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-185503 | 反射屈折投影対物系 | 2012年 9月27日 | |
特表 2012-523126 | 汚染を回避する方法及びEUVリソグラフィ装置 | 2012年 9月27日 | |
特開 2012-186466 | マイクロリソグラフィ投影露光機の製造方法、対応する投影露光機及びそのための投影対物レンズ | 2012年 9月27日 | |
特表 2012-522275 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を備えたマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | 2012年 9月20日 | |
特表 2012-522358 | EUVマイクロリソグラフィ用の照明光学系、この種の照明光学系用のEUV減衰器、及びこの種の照明光学系を有する照明系及び投影露光装置 | 2012年 9月20日 | |
特表 2012-522257 | 光学アセンブリ | 2012年 9月20日 | |
特表 2012-522273 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を備えたマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | 2012年 9月20日 | |
特開 2012-178573 | EUVリソグラフィ用照明システム及びこの種の照明システムに使用する第1及び第2の光学要素 | 2012年 9月13日 |
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2012-212910 2012-209584 2012-526368 2012-198197 2012-524391 2012-190041 2012-186508 2012-185503 2012-523126 2012-186466 2012-522275 2012-522358 2012-522257 2012-522273 2012-178573
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2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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