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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件
(2012年:第437位 89件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第457位 78件
(2012年:第478位 72件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2013-541210 | マイクロリソグラフィのための投影露光ツール及びマイクロリソグラフィ結像の方法 | 2013年11月 7日 | |
特表 2013-541193 | EUVリソグラフィ用ミラーの基板 | 2013年11月 7日 | |
特表 2013-540346 | 可動フィルタ要素を有する照明光学ユニット | 2013年10月31日 | |
特表 2013-540350 | EUV投影露光系のためのミラー、光学系、及び構成要素を生成する方法 | 2013年10月31日 | |
特表 2013-540348 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系及び像配置誤差を低減する方法 | 2013年10月31日 | |
特開 2013-225154 | 光学素子ユニット及び光学素子の支持方法 | 2013年10月31日 | |
特開 2013-225674 | 光モジュールへの力の影響を調整しうる光学装置 | 2013年10月31日 | |
特表 2013-540349 | 投影露光システム及び投影露光方法 | 2013年10月31日 | |
特開 2013-219383 | 第1および第2付加中間層を備えるEUVリソグラフィ装置用多層反射光学素子 | 2013年10月24日 | |
特開 2013-210647 | マイクロリソグラフィ投影光学系、ある機器を製造するための方法、光学面を設計する方法 | 2013年10月10日 | |
特表 2013-537710 | マイクロリソグラフィ用の投影露光ツールの光学系を検定する方法及び装置 | 2013年10月 3日 | |
特表 2013-536988 | 投影露光装置 | 2013年 9月26日 | |
特表 2013-535826 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置 | 2013年 9月12日 | |
特表 2013-535845 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2013年 9月12日 | |
特表 2013-535105 | 光学システム | 2013年 9月 9日 |
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2013-541210 2013-541193 2013-540346 2013-540350 2013-540348 2013-225154 2013-225674 2013-540349 2013-219383 2013-210647 2013-537710 2013-536988 2013-535826 2013-535845 2013-535105
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2月22日(土) - 東京 板橋区
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2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
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2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
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