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■ 2011年 出願公開件数ランキング 第539位 67件
(2010年:第2457位 9件)
■ 2011年 特許取得件数ランキング 第817位 34件
(2010年:第22882位 0件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2011-521445 | フーリエ光学系を含む照明系 | 2011年 7月21日 | |
特開 2011-138164 | 偏光変調光学素子 | 2011年 7月14日 | |
特表 2011-520240 | 制御可能な光学素子、熱アクチュエータによる光学素子の操作方法および半導体リソグラフィのための投影露光装置 | 2011年 7月14日 | |
特表 2011-520271 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の物体平面に走査積分照明エネルギを設定するための構成要素 | 2011年 7月14日 | |
特開 2011-135087 | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 | 2011年 7月 7日 | |
特表 2011-519172 | EUVマイクロリソグラフィ用の照明光学系及びこの種の照明光学系を含む照明系並びに投影露光装置 | 2011年 6月30日 | |
特開 2011-124584 | EUVマイクロリソグラフィのための照明光学ユニット | 2011年 6月23日 | |
特表 2011-517786 | マイクロリソグラフィのための投影対物系 | 2011年 6月16日 | |
特表 2011-517843 | 照明光学系及び投影露光装置 | 2011年 6月16日 | |
特表 2011-517071 | 洗浄モジュール、及び洗浄モジュールを備えたEUVリソグラフィ装置 | 2011年 5月26日 | |
特表 2011-517074 | マイクロリソグラフィ投影露光用の装置および基板の表面を検査するための装置 | 2011年 5月26日 | |
特表 2011-517101 | 光学アパーチャ装置 | 2011年 5月26日 | |
特表 2011-517072 | EUVマイクロリソグラフィ用の投影照明系 | 2011年 5月26日 | |
特表 2011-514687 | 洗浄モジュール,EUVリソグラフィ装置及びそれらの洗浄方法 | 2011年 5月 6日 | |
特表 2011-512659 | マイクロリソグラフィのための投影露光装置に使用するファセットミラー | 2011年 4月21日 |
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2011-521445 2011-138164 2011-520240 2011-520271 2011-135087 2011-519172 2011-124584 2011-517786 2011-517843 2011-517071 2011-517074 2011-517101 2011-517072 2011-514687 2011-512659
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2月22日(土) - 東京 板橋区
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2月26日(水) -
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2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
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