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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第437位 89件
(2011年:第539位 67件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第478位 72件
(2011年:第817位 34件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2012-521077 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2012年 9月10日 | |
特表 2012-520993 | 複屈折を測定する測定法及び測定システム | 2012年 9月10日 | |
特開 2012-175102 | 投影露光装置へ電磁放射を案内する装置 | 2012年 9月10日 | |
特表 2012-520554 | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | 2012年 9月 6日 | |
特開 2012-169634 | 投影リソグラフィのための照明光学ユニット | 2012年 9月 6日 | |
特開 2012-168541 | 遮光瞳を有する高開口率対物光学系 | 2012年 9月 6日 | |
特開 2012-168550 | 複数の投影対物レンズを備えた投影露光装置 | 2012年 9月 6日 | |
特表 2012-519951 | マイクロリソグラフィ用の照明光学系及び光学系 | 2012年 8月30日 | |
特表 2012-519872 | 結像光学系及び該結像光学系を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | 2012年 8月30日 | |
特開 2012-156552 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム用の光結合器 | 2012年 8月16日 | |
特表 2012-518286 | 投影露光方法、投影露光装置、レーザ放射線源、及びレーザ放射線源用の帯域幅狭化モジュール | 2012年 8月 9日 | |
特表 2012-518272 | アクチュエータシステムを備える投影露光装置 | 2012年 8月 9日 | |
特開 2012-147019 | 投影露光系、ビーム伝送系及び光ビームの生成方法 | 2012年 8月 2日 | |
特表 2012-517707 | 結像光学系及びこの種の結像光学系を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | 2012年 8月 2日 | |
特表 2012-517695 | 投影露光システム用の少なくとも1つの磁石を有するアクチュエータ、その製造方法、及び磁石を有する投影露光システム | 2012年 8月 2日 |
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2012-521077 2012-520993 2012-175102 2012-520554 2012-169634 2012-168541 2012-168550 2012-519951 2012-519872 2012-156552 2012-518286 2012-518272 2012-147019 2012-517707 2012-517695
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2月22日(土) - 東京 板橋区
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2月27日(木) - 東京 港区
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