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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特表 2011-512660	マイクロリソグラフィ投影露光装置用の光学系及びマイクロリソグラフィ露光方法	2011年 4月21日
特表 2011-512018	光学素子の温度制御装置	2011年 4月14日
特開 2011-76094	反射屈折投影対物系	2011年 4月14日
特表 2011-510494	測定手段を有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置	2011年 3月31日
特表 2011-508409	光学系	2011年 3月10日
特開 2011-48344	光学要素	2011年 3月10日
特表 2011-507294	マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明系	2011年 3月 3日
特表 2011-507292	マイクロリソグラフィ露光装置のマスク照明用の照明系	2011年 3月 3日
特表 2011-507293	マイクロリソグラフィ投影露光装置	2011年 3月 3日
特表 2011-507241	マイクロリソグラフィ用の照明光学系	2011年 3月 3日
特開 2011-39526	反射屈折投影対物系	2011年 2月24日
特開 2011-29655	多重露光方法、マイクロリソグラフィー投影露光装置および投影系	2011年 2月10日
特表 2011-504296	マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系	2011年 2月 3日
特表 2011-504294	光学面から汚染層を除去するための方法、洗浄ガスを生成するための方法、ならびに対応する洗浄および洗浄ガス生成の構造	2011年 2月 3日	共同出願
特表 2011-503654	紫外線反射光学素子、紫外線反射光学素子を作製する方法、および紫外線反射光学素子を備える投影露光装置	2011年 1月27日

67 件中 46-60 件を表示

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2011-512660 2011-512018 2011-76094 2011-510494 2011-508409 2011-48344 2011-507294 2011-507292 2011-507293 2011-507241 2011-39526 2011-29655 2011-504296 2011-504294 2011-503654

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