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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件
(2012年:第437位 89件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第457位 78件
(2012年:第478位 72件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2013-524492 | 光学系、露光装置、及び波面補正方法 | 2013年 6月17日 | |
特表 2013-524497 | マスクによって生じる結像収差の補正を用いて投影露光装置を作動させる方法 | 2013年 6月17日 | |
特表 2013-522918 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明系 | 2013年 6月13日 | |
特表 2013-520690 | マスク検査装置の照明系及び投影対物系 | 2013年 6月 6日 | |
特開 2013-102225 | マイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明光学系 | 2013年 5月23日 | |
特表 2013-518421 | 反射光学素子を有するマイクロリソグラフィ用の投影露光ツールで使用する光学配置構成 | 2013年 5月20日 | 共同出願 |
特表 2013-518419 | マイクロリソグラフィに使用するためのファセットミラー | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-95659 | EUVリソグラフィ用の光学機構及び該光学機構を構成する方法 | 2013年 5月20日 | |
特表 2013-518418 | 光学系の偏光特性を特性決定する構成体及び方法 | 2013年 5月20日 | |
特開 2013-80933 | 寄生負荷最小化光学素子モジュール | 2013年 5月 2日 | |
特開 2013-80720 | 粒子光学装置及び荷電粒子ビーム操作方法 | 2013年 5月 2日 | 共同出願 |
特表 2013-514639 | 複数の反射ファセット要素を有する光学要素 | 2013年 4月25日 | |
特表 2013-514651 | EUVリソグラフィ用反射マスク | 2013年 4月25日 | |
特開 2013-74299 | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | 2013年 4月22日 | |
特表 2013-513957 | 結像光学系 | 2013年 4月22日 |
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2013-524492 2013-524497 2013-522918 2013-520690 2013-102225 2013-518421 2013-518419 2013-95659 2013-518418 2013-80933 2013-80720 2013-514639 2013-514651 2013-74299 2013-513957
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2月22日(土) - 東京 板橋区
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2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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