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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第437位 89件
(2011年:第539位 67件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第478位 72件
(2011年:第817位 34件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特開 2012-74697 | EUVコレクタ | 2012年 4月12日 | |
特開 2012-69925 | UV又はEUVリソグラフィ用の光学素子 | 2012年 4月 5日 | |
特開 2012-60178 | 投影露光系、このような投影露光系の補助により微細構造の構成部材を製造する方法、このような系において使用するために適応させた偏光光学素子 | 2012年 3月22日 | |
特開 2012-60155 | マイクロリソグラフィのための投影対物器械、その投影対物器械を有するマイクロリソグラフィ投影露光装置、構成要素のためのマイクロリソグラフィ製造方法、並びにその方法を用いて製造される構成要素 | 2012年 3月22日 | |
特開 2012-60190 | 光源の変動を測定するためのシステムを備えたEUV照明システム | 2012年 3月22日 | |
特表 2012-507160 | EUVマイクロリソグラフィ用の照明光学系 | 2012年 3月22日 | |
特表 2012-506135 | 放射線ビームを案内するための光学モジュール | 2012年 3月 8日 | |
特開 2012-48251 | ハウジング構造体 | 2012年 3月 8日 | |
特表 2012-506134 | EUVリソグラフィ装置及び光学素子を処理する方法 | 2012年 3月 8日 | |
特開 2012-42967 | 投影光学系 | 2012年 3月 1日 | |
特表 2012-505533 | マイクロミラーを駆動する方法及びデバイス | 2012年 3月 1日 | |
特表 2012-504330 | 光学素子のための支持要素 | 2012年 2月16日 | |
特表 2012-504321 | EUVマイクロリソグラフィ用の投影露光装置の照明光学系に使用するための視野ファセットミラー | 2012年 2月16日 | |
特表 2012-504329 | 半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 | 2012年 2月16日 | |
特表 2012-504324 | マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム | 2012年 2月16日 |
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2012-74697 2012-69925 2012-60178 2012-60155 2012-60190 2012-507160 2012-506135 2012-48251 2012-506134 2012-42967 2012-505533 2012-504330 2012-504321 2012-504329 2012-504324
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2月20日(木) - 東京 港区
2月20日(木) -
2月20日(木) -
2月20日(木) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 千代田区
2月21日(金) - 東京 大田
パテントマップを用いた知財戦略の策定方法 -自社が勝つパテントマップ作成と それを活用した開発戦略・知財戦略の実践方法- <東京会場受講(対面)/Zoomオンライン受講 選択可> <見逃し視聴選択可>
2月21日(金) -
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月20日(木) - 東京 港区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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