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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特表 2012-504329	半導体部品を製造するためのマイクロリソグラフィ用の投影露光装置	2012年 2月16日
特表 2012-504321	ＥＵＶマイクロリソグラフィ用の投影露光装置の照明光学系に使用するための視野ファセットミラー	2012年 2月16日
特表 2012-504330	光学素子のための支持要素	2012年 2月16日
特開 2012-28767	マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システム	2012年 2月 9日
特開 2012-28803	強度変化の補償を伴う投影系及びそのための補償素子	2012年 2月 9日
特表 2012-503870	調整機能を最適化した投影露光装置	2012年 2月 9日
特表 2012-503305	半導体リソグラフィのための投影露光装置における振動減衰方法	2012年 2月 2日
特表 2012-503319	温度制御装置を有する光学アセンブリ	2012年 2月 2日
特表 2012-503318	反射光学素子とその製造方法	2012年 2月 2日
特表 2012-502490	結像光学系	2012年 1月26日
特表 2012-502454	ＥＵＶリソグラフィ装置のための保護モジュール、およびＥＵＶリソグラフィ装置	2012年 1月26日
特開 2012-14180	少なくとも１つのシステム絞りを備えた光学結像装置	2012年 1月19日
特開 2012-8574	マイクロリソグラフィ投影光学系、ある機器を製造するための方法、光学面を設計する方法	2012年 1月12日
特表 2012-501072	ＥＵＶリソグラフィ装置およびＥＵＶリソグラフィ装置における汚染物質の検出方法、	2012年 1月12日

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2012-504329 2012-504321 2012-504330 2012-28767 2012-28803 2012-503870 2012-503305 2012-503319 2012-503318 2012-502490 2012-502454 2012-14180 2012-8574 2012-501072

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