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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件 (2012年:第437位 89件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
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特表 2013-506979 | マイクロリソグラフィのための照明光学ユニット | 2013年 2月28日 | |
特表 2013-506277 | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学システム | 2013年 2月21日 | |
特表 2013-506279 | 光学システムの、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学構成体 | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-37371 | 反射屈折投影対物レンズ | 2013年 2月21日 | |
特表 2013-506306 | 偏向ミラーを含む反射屈折投影対物系及び投影露光方法 | 2013年 2月21日 | |
特表 2013-506308 | 反射光学素子及びEUVリソグラフィ装置を作動させる方法 | 2013年 2月21日 | |
特表 2013-506281 | EUVリソグラフィ用投影露光装置の光学構成体 | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-38440 | 対象物表面の所定の照明領域をEUV照射によって照らすための照明システム | 2013年 2月21日 | |
特開 2013-33286 | 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 | 2013年 2月14日 | |
特表 2013-504762 | 光学表面の形状を測定する方法及び干渉測定デバイス | 2013年 2月 7日 | |
特表 2013-504787 | マイクロリソグラフィ投影露光装置で使用するミラー | 2013年 2月 7日 | |
特表 2013-504218 | 表面外形(SURFACEFIGURE)変形の少ない光学素子 | 2013年 2月 4日 | |
特開 2013-16811 | 結像誤差の判断を備えた光学結像装置 | 2013年 1月24日 | 共同出願 |
特表 2013-502705 | 反射光学素子及びその生産方法 | 2013年 1月24日 | 共同出願 |
特表 2013-502707 | EUVマイクロリソグラフィー用基板及びミラーとその製造方法 | 2013年 1月24日 |
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2013-506979 2013-506277 2013-506279 2013-37371 2013-506306 2013-506308 2013-506281 2013-38440 2013-33286 2013-504762 2013-504787 2013-504218 2013-16811 2013-502705 2013-502707
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11月22日(金) -
11月22日(金) - 東京 千代田区
11月22日(金) - 東京 港区
11月22日(金) -
11月22日(金) - 大阪 大阪市
11月22日(金) -
11月22日(金) -
11月25日(月) -
11月25日(月) - 岐阜 各務原市
11月26日(火) -
11月26日(火) - 東京 港区
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月26日(火) -
11月27日(水) - 東京 港区
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月27日(水) -
11月28日(木) - 東京 港区
11月28日(木) - 島根 松江市
11月28日(木) - 京都 京都市
11月28日(木) -
11月28日(木) - 大阪 大阪市
11月28日(木) -
11月29日(金) - 東京 港区
11月29日(金) - 茨城 ひたちなか市
11月30日(土) -
12月1日(日) -
12月1日(日) -
11月25日(月) -
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