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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日	備考
特表 2013-506979	マイクロリソグラフィのための照明光学ユニット	2013年 2月28日
特表 2013-506277	特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学システム	2013年 2月21日
特表 2013-506279	光学システムの、特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学構成体	2013年 2月21日
特開 2013-37371	反射屈折投影対物レンズ	2013年 2月21日
特表 2013-506306	偏向ミラーを含む反射屈折投影対物系及び投影露光方法	2013年 2月21日
特表 2013-506308	反射光学素子及びＥＵＶリソグラフィ装置を作動させる方法	2013年 2月21日
特表 2013-506281	ＥＵＶリソグラフィ用投影露光装置の光学構成体	2013年 2月21日
特開 2013-38440	対象物表面の所定の照明領域をＥＵＶ照射によって照らすための照明システム	2013年 2月21日
特開 2013-33286	瞳補正を有する反射屈折投影対物系	2013年 2月14日
特表 2013-504762	光学表面の形状を測定する方法及び干渉測定デバイス	2013年 2月 7日
特表 2013-504787	マイクロリソグラフィ投影露光装置で使用するミラー	2013年 2月 7日
特表 2013-504218	表面外形（ＳＵＲＦＡＣＥＦＩＧＵＲＥ）変形の少ない光学素子	2013年 2月 4日
特開 2013-16811	結像誤差の判断を備えた光学結像装置	2013年 1月24日	共同出願
特表 2013-502705	反射光学素子及びその生産方法	2013年 1月24日	共同出願
特表 2013-502707	ＥＵＶマイクロリソグラフィー用基板及びミラーとその製造方法	2013年 1月24日

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2013-506979 2013-506277 2013-506279 2013-37371 2013-506306 2013-506308 2013-506281 2013-38440 2013-33286 2013-504762 2013-504787 2013-504218 2013-16811 2013-502705 2013-502707

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