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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第430位 93件
(2012年:第437位 89件)
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第457位 78件
(2012年:第478位 72件)
(ランキング更新日:2025年2月21日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特表 2013-501370 | 少なくとも2つの鏡面を有するミラーを製造する方法、マイクロリソグラフィ用投影露光装置のミラー、及び投影露光装置 | 2013年 1月10日 | |
特表 2013-501348 | 光学ビーム偏向要素及び調節方法 | 2013年 1月10日 | |
特表 2013-500593 | EUVまたはUVリソグラフィ装置の部材及びその製造方法 | 2013年 1月 7日 |
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2013-501370 2013-501348 2013-500593
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2月22日(土) - 東京 板橋区
2月22日(土) - 東京 板橋区
2月25日(火) -
2月25日(火) -
2月26日(水) -
2月26日(水) -
2月26日(水) - 東京 港区
2月26日(水) -
2月26日(水) - 千葉 船橋市
2月27日(木) -
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 港区
2月27日(木) -
2月27日(木) - 東京 千代田区
2月25日(火) -
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