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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第383位 96件
（
2013年：第430位 93件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第284位 137件
（2013年：第457位 78件）
（ランキング更新日：2025年2月18日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5600377 | リソグラフィ用投影対物レンズ | 2014年10月 1日 | |
| 特許 5600680 | 結像光学系 | 2014年10月 1日 | |
| 特許 5591875 | マイクロリソグラフィ投影対物レンズ | 2014年 9月17日 | |
| 特許 5586611 | ＥＵＶリソグラフィ装置及び光学素子を処理する方法 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5588176 | 傾斜偏向ミラーを有する反射屈折投影対物器械、投影露光装置、投影露光方法、及びミラー | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5585761 | マイクロリソグラフィのための光学要素及び照明光学系 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5587917 | マイクロリソグラフィ投影露光装置 | 2014年 9月10日 | |
| 特許 5583646 | ハウジング構造体 | 2014年 9月 3日 | |
| 特許 5580298 | 光学モジュールへの力作用を調節可能な光学装置 | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5579063 | 制御可能な光学素子、熱アクチュエータによる光学素子の操作方法および半導体リソグラフィのための投影露光装置 | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5578847 | 半導体リソグラフィ用光学系 | 2014年 8月27日 | |
| 特許 5576938 | マイクロリソグラフィのための照明光学ユニット | 2014年 8月20日 | |
| 特許 5567521 | 露光プロセス用の光学素子ユニット | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5567098 | 瞳補正を有する反射屈折投影対物系 | 2014年 8月 6日 | |
| 特許 5566501 | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 | 2014年 8月 6日 |
137 件中 31-45 件を表示
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5600377 5600680 5591875 5586611 5588176 5585761 5587917 5583646 5580298 5579063 5578847 5576938 5567521 5567098 5566501
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