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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第437位 89件
（
2011年：第539位 67件）
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第478位 72件
（2011年：第817位 34件）
（ランキング更新日：2025年5月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 4921699 | 投影露光方法と投影露光システム | 2012年 4月25日 | |
| 特許 4920041 | 光学系とりわけマイクロリソグラフィック投影露光機における偏光分布に影響を与えるための装置及び方法 | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4918542 | ６枚の反射鏡を備えたＥＵＶ投影光学系 | 2012年 4月18日 | |
| 特許 4913041 | 強度変化の補償を伴う投影系及びそのための補償素子 | 2012年 4月11日 | |
| 特許 4907596 | 屈折性投影対物レンズ | 2012年 3月28日 | |
| 特許 4892645 | マイクロリソグラフィ投影露光用の装置および基板の表面を検査するための装置 | 2012年 3月 7日 | |
| 特許 4879348 | 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置の光学系 | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4881853 | 露光プロセス用の光学素子ユニット | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4880915 | マイクロリソグラフィ用投影露光装置の光学システム | 2012年 2月22日 | |
| 特許 4864869 | マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明系 | 2012年 2月 1日 | |
| 特許 4851608 | 光学素子の位置決めユニット | 2012年 1月11日 | |
| 特許 4852617 | マイクロリソグラフィ投影露光装置のための照明システム | 2012年 1月11日 |
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4921699 4920041 4918542 4913041 4907596 4892645 4879348 4881853 4880915 4864869 4851608 4852617
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