特許ランキング - 出願人詳細情報 -

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

※ ログインすれば出願人(カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー)をリストに登録できます。ログインについて

　■　2014年出願公開件数ランキング　　　第383位　96件（2013年：第430位　93件）

　■　2014年特許取得件数ランキング　　　第284位　137件（2013年：第457位　78件）

（ランキング更新日：2025年5月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています

2011年 2012年 2013年 2015年 2016年 2017年 2018年 2019年 2020年 2021年 2022年 2023年 2024年 2025年

カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの商標一覧

公報番号	発明の名称	公報発行日
特許 5484467	ＥＵＶリソグラフィ装置のための保護モジュール、およびＥＵＶリソグラフィ装置	2014年 5月 7日
特許 5485499	一時的に基板を支持する支持構造	2014年 5月 7日
特許 5481192	光学表面の実際形状の所望形状からの偏差を測定する方法および装置	2014年 4月23日
特許 5479890	マイクロリソグラフィ投影光学システム、装置、及び製造方法	2014年 4月23日
特許 5479889	デバイス製造用のマイクロリソグラフィ投影光学システム及び方法	2014年 4月23日
特許 5476591	マイクロリソグラフィ用投影対物レンズ	2014年 4月23日
特許 5476482	反射光学構成要素と測定デバイスとを含む反射屈折投影対物系	2014年 4月23日
特許 5481475	マイクロリソグラフィのための投影露光システムおよび側方結像安定性監視方法	2014年 4月23日
特許 5478773	光学系、露光装置、及び波面補正方法	2014年 4月23日
特許 5480232	投影露光系、このような投影露光系の補助により微細構造の構成部材を製造する方法、このような系において使用するために適応させた偏光光学素子	2014年 4月23日
特許 5475448	画像変化を補正する方法及びシステム	2014年 4月16日
特許 5469778	結像光学系及びそのような結像光学系を有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置	2014年 4月16日
特許 5475785	マイクロリソグラフィ投影露光装置の照明システム	2014年 4月16日
特許 5475220	光学撮像装置および方法	2014年 4月16日
特許 5465247	マイクロリソグラフィ投影露光装置における偏光分布を修正する方法及びマイクロリソグラフィ投影露光装置	2014年 4月 9日

137 件中 91-105 件を表示

... 7

※ をクリックすると公報番号が選択状態になります。クリップボードにコピーする際にお使いください。

このページの公報番号をまとめてクリップボードにコピー

5484467 5485499 5481192 5479890 5479889 5476591 5476482 5481475 5478773 5480232 5475448 5469778 5475785 5475220 5465247

※ ログインすれば出願人をリストに登録できます。カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハーの知財の動向チェックに便利です。

ログインについて

ランキング一覧に戻る

特許ランキング

2025年特許出願件数	2025年特許取得件数
2024年特許出願件数	2024年特許取得件数
2023年特許出願件数	2023年特許取得件数
2022年特許出願件数	2022年特許取得件数
2021年特許出願件数	2021年特許取得件数
2020年特許出願件数	2020年特許取得件数
2019年特許出願件数	2019年特許取得件数
2018年特許出願件数	2018年特許取得件数
2017年特許出願件数	2017年特許取得件数
2016年特許出願件数	2016年特許取得件数
2015年特許出願件数	2015年特許取得件数
2013年特許出願件数	2013年特許取得件数
2012年特許出願件数	2012年特許取得件数
2011年特許出願件数	2011年特許取得件数