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■ 2012年 出願公開件数ランキング 第343位 120件 (2011年:第376位 103件)
■ 2012年 特許取得件数ランキング 第464位 75件 (2011年:第886位 31件)
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5010701 | 検査装置および検査方法 | 2012年 8月29日 | 共同出願 |
特許 5008477 | 荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 8月22日 | |
特許 5009117 | 描画装置及び描画時間の取得方法 | 2012年 8月22日 | |
特許 5007063 | 荷電粒子ビーム装置、DA変換装置の異常検出方法、荷電粒子ビーム描画方法及びマスク | 2012年 8月22日 | |
特許 5009199 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 8月22日 | |
特許 5001563 | 荷電粒子線描画データの作成方法 | 2012年 8月15日 | |
特許 4996978 | 描画方法 | 2012年 8月 8日 | |
特許 4989158 | 荷電粒子線描画データの作成方法及び荷電粒子線描画データの変換方法 | 2012年 8月 1日 | |
特許 4987554 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2012年 7月25日 | |
特許 4976071 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年 7月18日 | |
特許 4981485 | 気相成長方法および気相成長装置 | 2012年 7月18日 | |
特許 4976111 | 気相成長方法 | 2012年 7月18日 | |
特許 4972444 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2012年 7月11日 | |
特許 4958469 | 荷電粒子ビーム描画装置の描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2012年 6月20日 | |
特許 4956469 | 半導体製造装置 | 2012年 6月20日 |
75 件中 31-45 件を表示
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5010701 5008477 5009117 5007063 5009199 5001563 4996978 4989158 4987554 4976071 4981485 4976111 4972444 4958469 4956469
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2月4日(火) - 東京 港区
2月4日(火) - 神奈川 川崎市
2月4日(火) -
2月4日(火) -
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2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月5日(水) -
2月6日(木) - 東京 港区
2月6日(木) -
2月7日(金) -
2月7日(金) - 東京 港区
2月7日(金) - 神奈川 横浜市
2月7日(金) -
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