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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第410位 100件
（
2012年：第343位 120件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第439位 82件
（
2012年：第464位 75件）
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5256365 | 半導体装置の製造方法及び露光用マスクへのパターン形成方法 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5254270 | 検査方法および検査装置 | 2013年 8月 7日 | 共同出願 |
| 特許 5254099 | パターン寸法測定方法及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 8月 7日 | |
| 特許 5252896 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5253669 | 半導体装置の製造方法及び露光用マスクへのパターン形成方法 | 2013年 7月31日 | |
| 特許 5243899 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5242963 | 荷電粒子ビーム描画装置、パターン寸法のリサイズ装置、荷電粒子ビーム描画方法及びパターン寸法のリサイズ方法 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5243898 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 7月24日 | |
| 特許 5238765 | 電子ビーム・マスク描画装置及びディジタル・アナログ変換／アンプ回路のテスト方法 | 2013年 7月17日 | |
| 特許 5231058 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5232429 | 描画装置及び描画方法 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5231200 | 感度表データ作成方法及び感度表データ作成装置 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5231117 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5232864 | 電子ビーム描画装置の制御装置及び制御方法並びに描画方法 | 2013年 7月10日 | |
| 特許 5216347 | 描画装置及び描画データの変換方法 | 2013年 6月19日 |
82 件中 31-45 件を表示
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5256365 5254270 5254099 5252896 5253669 5243899 5242963 5243898 5238765 5231058 5232429 5231200 5231117 5232864 5216347
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