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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第410位 100件
（
2012年：第343位 120件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第439位 82件
（
2012年：第464位 75件）
（ランキング更新日：2025年5月30日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5209200 | 荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5208850 | 成膜装置 | 2013年 6月12日 | |
| 特許 5204687 | 荷電粒子ビーム描画方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5204697 | 荷電粒子ビーム描画装置及び位置測定方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5204599 | レイアウト表示装置及びレイアウト表示方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5203995 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5204451 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5204721 | 成膜装置および成膜方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5203992 | 電子ビーム描画装置及び電子ビーム描画方法 | 2013年 6月 5日 | |
| 特許 5199921 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビームの光軸ずれ補正方法 | 2013年 5月15日 | |
| 特許 5199756 | 成形ビームのオフセット偏向量取得方法及び描画装置 | 2013年 5月15日 | |
| 特許 5199786 | 描画データの分割領域データ量の取得方法及び描画データの分割領域データ量の取得装置 | 2013年 5月15日 | |
| 特許 5199896 | 描画方法及び描画装置 | 2013年 5月15日 | |
| 特許 5184188 | 電子ビーム描画装置及び位置ずれ量補正方法 | 2013年 4月17日 | |
| 特許 5174531 | 荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画装置における描画方法 | 2013年 4月 3日 |
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5209200 5208850 5204687 5204697 5204599 5203995 5204451 5204721 5203992 5199921 5199756 5199786 5199896 5184188 5174531
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