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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第473位 74件
（
2013年：第410位 100件）
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第336位 115件
（
2013年：第439位 82件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5525798 | 荷電粒子ビーム描画装置およびその帯電効果補正方法 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5525352 | 偏向アンプの評価方法および荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5525936 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5525739 | パターン検査装置及びパターン検査方法 | 2014年 6月18日 | |
| 特許 5520161 | 電子銃のコンディショニング方法および電子ビーム描画装置 | 2014年 6月11日 | |
| 特許 5514754 | 検査装置および検査方法 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5513578 | サセプタ、半導体製造装置及び半導体製造方法 | 2014年 6月 4日 | |
| 特許 5498105 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5496721 | 成膜装置および成膜方法 | 2014年 5月21日 | 共同出願 |
| 特許 5500953 | 成膜装置および成膜方法 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5497584 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5495540 | 描画方法及び描画装置 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5498106 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 5月21日 | |
| 特許 5491373 | 電子銃のコンディショニング方法および電子線描画装置 | 2014年 5月14日 | |
| 特許 5484808 | 描画装置及び描画方法 | 2014年 5月 7日 |
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5525798 5525352 5525936 5525739 5520161 5514754 5513578 5498105 5496721 5500953 5497584 5495540 5498106 5491373 5484808
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