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株式会社ニューフレアテクノロジー
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■ 2013年 出願公開件数ランキング 第410位 100件
（
2012年：第343位 120件）
■ 2013年 特許取得件数ランキング 第439位 82件
（
2012年：第464位 75件）
（ランキング更新日：2025年6月6日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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株式会社ニューフレアテクノロジーの商標一覧| 公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5166400 | ビーム描画装置 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5165952 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2013年 3月21日 | |
| 特許 5162385 | 荷電粒子ビーム描画装置におけるレーザー測長計の光軸調整方法 | 2013年 3月13日 | |
| 特許 5148233 | 描画装置及び描画方法 | 2013年 2月20日 | |
| 特許 5139658 | 描画データ処理制御装置 | 2013年 2月 6日 | |
| 特許 5129535 | フォトマスク高さ測定方法及び高さ測定装置を有する電子線描画装置 | 2013年 1月30日 | |
| 特許 5133298 | 気相成長装置及び気相成長方法 | 2013年 1月30日 | |
| 特許 5134944 | 描画装置及び描画方法 | 2013年 1月30日 | |
| 特許 5134158 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 1月30日 | |
| 特許 5133728 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 1月30日 | |
| 特許 5133087 | 半導体装置の製造方法 | 2013年 1月30日 | |
| 特許 5129626 | 電子ビーム描画装置および電子ビーム描画方法 | 2013年 1月30日 | |
| 特許 5134311 | 半導体製造装置および半導体製造方法 | 2013年 1月30日 | |
| 特許 5127581 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2013年 1月23日 | |
| 特許 5123730 | 偏向アンプのセトリング時間検査方法及び偏向アンプの故障判定方法 | 2013年 1月23日 |
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5166400 5165952 5162385 5148233 5139658 5129535 5133298 5134944 5134158 5133728 5133087 5129626 5134311 5127581 5123730
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