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■ 2014年 出願公開件数ランキング 第473位 74件
(2013年:第410位 100件)
■ 2014年 特許取得件数ランキング 第336位 115件
(2013年:第439位 82件)
(ランキング更新日:2025年5月30日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称 | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 5484808 | 描画装置及び描画方法 | 2014年 5月 7日 | |
特許 5479260 | サセプタの処理方法および半導体製造装置の処理方法 | 2014年 4月23日 | 共同出願 |
特許 5481224 | 成膜装置および成膜方法 | 2014年 4月23日 | 共同出願 |
特許 5481554 | 荷電ビーム描画装置及び荷電ビーム描画装置の設計方法 | 2014年 4月23日 | |
特許 5480555 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 4月23日 | |
特許 5480496 | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 4月23日 | |
特許 5469438 | 温度調節システムおよびこれを用いた荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 4月16日 | |
特許 5469531 | 描画データの作成方法、荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 | 2014年 4月16日 | |
特許 5468796 | 荷電粒子ビーム描画装置、荷電粒子ビーム描画方法、及びデータ処理方式選択装置 | 2014年 4月 9日 | |
特許 5466416 | 荷電粒子ビーム描画方法および装置 | 2014年 4月 9日 | |
特許 5466414 | 荷電粒子ビーム描画装置およびパターン検査装置並びにレイアウト表示方法 | 2014年 4月 9日 | |
特許 5465923 | 荷電粒子ビーム描画の主偏向セトリング時間の決定方法及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 4月 9日 | |
特許 5463429 | 荷電粒子描画システム及び荷電粒子描画装置のパラメータ監視方法 | 2014年 4月 9日 | |
特許 5463149 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 | 2014年 4月 9日 | |
特許 5463016 | パターンデータ作成方法 | 2014年 4月 9日 |
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5484808 5479260 5481224 5481554 5480555 5480496 5469438 5469531 5468796 5466416 5466414 5465923 5463429 5463149 5463016
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6月4日(水) -
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6月4日(水) -
6月5日(木) -
6月6日(金) -
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