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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第630位 43件
(2023年:第641位 46件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第440位 63件
(2023年:第259位 132件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
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特許 7550326 | 成膜装置、および搬送方法 | 2024年 9月12日 | |
特許 7544895 | 質量分析計及び質量分析システム | 2024年 9月 3日 | |
特許 7543176 | プラズマ処理装置およびそのメンテナンス方法 | 2024年 9月 2日 | |
特許 7543448 | マグネトロンスパッタリング装置用のカソードユニット及びマグネトロンスパッタリング装置 | 2024年 9月 2日 | |
特許 7536551 | 成膜管理方法、および、成膜装置 | 2024年 8月20日 | |
特許 7535389 | 真空蒸着装置 | 2024年 8月16日 | |
特許 7530533 | 真空蒸着装置用の蒸着源及び真空蒸着方法 | 2024年 8月 7日 | |
特許 7527206 | スパッタリング装置 | 2024年 8月 2日 | |
特許 7524019 | 薄膜の形成方法 | 2024年 7月29日 | |
特許 7522670 | 連続処理装置 | 2024年 7月25日 | |
特許 7517886 | 真空処理装置用のステージ | 2024年 7月17日 | |
特許 7517911 | 成膜方法及びスパッタリング装置 | 2024年 7月17日 | |
特許 7510457 | プラズマ処理装置 | 2024年 7月 3日 | |
特許 7503398 | 真空成膜装置用の部品 | 2024年 6月20日 | |
特許 7503481 | 膜厚モニタ | 2024年 6月20日 |
66 件中 16-30 件を表示
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7550326 7544895 7543176 7543448 7536551 7535389 7530533 7527206 7524019 7522670 7517886 7517911 7510457 7503398 7503481
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