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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第630位 43件
(2023年:第641位 46件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第440位 63件
(2023年:第259位 132件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7478059 | シリコンのドライエッチング方法 | 2024年 5月 2日 | |
特許 7469107 | 金ナノ粒子の凝集体、金ナノ粒子分散液、放射線治療用増感剤及び金ナノ粒子分散液の製造方法 | 2024年 4月16日 | |
特許 7449790 | 金属配線の形成方法及び金属配線の構造体 | 2024年 3月14日 | |
特許 7449806 | 吸着装置及び真空処理装置 | 2024年 3月14日 | |
特許 7440346 | 通電加熱線の製造方法および製造装置 | 2024年 2月28日 | |
特許 7440347 | 通電加熱線の製造方法および製造装置 | 2024年 2月28日 | |
特許 7440372 | 酸化物半導体膜の形成方法及び電子部品 | 2024年 2月28日 | |
特許 7438506 | フレキシブルディスプレイパネルの製造方法 | 2024年 2月27日 | |
特許 7438853 | マグネトロンスパッタリング装置 | 2024年 2月27日 | |
特許 7437525 | 回転式カソードユニット用の駆動ブロック | 2024年 2月22日 | |
特許 7430843 | 酸化物半導体薄膜、半導体デバイス及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 | 2024年 2月13日 | |
特許 7430035 | 真空排気装置及びその運転方法 | 2024年 2月 9日 | |
特許 7425931 | 酸化物半導体薄膜積層体及びその製造方法、薄膜半導体装置及びその製造方法、及びスパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2024年 1月31日 | |
特許 7425933 | 酸化物半導体薄膜形成用スパッタリングターゲット、酸化物半導体薄膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法、酸化物半導体薄膜、薄膜半導体装置及びその製造方法 | 2024年 1月31日 | |
特許 7424772 | 真空排気装置及びその運転方法 | 2024年 1月30日 |
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7478059 7469107 7449790 7449806 7440346 7440347 7440372 7438506 7438853 7437525 7430843 7430035 7425931 7425933 7424772
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