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株式会社アルバック

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  2024年 出願公開件数ランキング    第630位 43件 上昇2023年:第641位 46件)

  2024年 特許取得件数ランキング    第440位 63件 下降2023年:第259位 132件)

(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています

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公報番号発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます)公報発行日備考
特許 7478059 シリコンのドライエッチング方法 2024年 5月 2日
特許 7469107 金ナノ粒子の凝集体、金ナノ粒子分散液、放射線治療用増感剤及び金ナノ粒子分散液の製造方法 2024年 4月16日
特許 7449790 金属配線の形成方法及び金属配線の構造体 2024年 3月14日
特許 7449806 吸着装置及び真空処理装置 2024年 3月14日
特許 7440346 通電加熱線の製造方法および製造装置 2024年 2月28日
特許 7440347 通電加熱線の製造方法および製造装置 2024年 2月28日
特許 7440372 酸化物半導体膜の形成方法及び電子部品 2024年 2月28日
特許 7438506 フレキシブルディスプレイパネルの製造方法 2024年 2月27日
特許 7438853 マグネトロンスパッタリング装置 2024年 2月27日
特許 7437525 回転式カソードユニット用の駆動ブロック 2024年 2月22日
特許 7430843 酸化物半導体薄膜、半導体デバイス及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 2024年 2月13日
特許 7430035 真空排気装置及びその運転方法 2024年 2月 9日
特許 7425931 酸化物半導体薄膜積層体及びその製造方法、薄膜半導体装置及びその製造方法、及びスパッタリングターゲット及びその製造方法 2024年 1月31日
特許 7425933 酸化物半導体薄膜形成用スパッタリングターゲット、酸化物半導体薄膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法、酸化物半導体薄膜、薄膜半導体装置及びその製造方法 2024年 1月31日
特許 7424772 真空排気装置及びその運転方法 2024年 1月30日

66 件中 46-60 件を表示

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7478059 7469107 7449790 7449806 7440346 7440347 7440372 7438506 7438853 7437525 7430843 7430035 7425931 7425933 7424772

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