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■ 2024年 出願公開件数ランキング 第630位 43件
(2023年:第641位 46件)
■ 2024年 特許取得件数ランキング 第440位 63件
(2023年:第259位 132件)
(ランキング更新日:2025年6月27日)筆頭出願人である出願のみカウントしています
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公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
---|---|---|---|
特許 7503702 | 真空蒸着装置用の蒸着源 | 2024年 6月20日 | |
特許 7502120 | 成膜装置及び成膜方法 | 2024年 6月18日 | |
特許 7496239 | 薄膜リチウム二次電池及び薄膜リチウム二次電池の製造方法 | 2024年 6月 6日 | |
特許 7495289 | クリーニング方法 | 2024年 6月 4日 | |
特許 7493580 | 準化学量論的金属酸化物薄膜 | 2024年 5月31日 | |
特許 7493666 | 酸化物半導体薄膜、薄膜半導体装置及びその製造方法、並びにスパッタリングターゲット及びその製造方法 | 2024年 5月31日 | |
特許 7493688 | 酸化物半導体薄膜形成用スパッタリングターゲット、酸化物半導体薄膜形成用スパッタリングターゲットの製造方法、酸化物半導体薄膜、薄膜半導体装置及びその製造方法 | 2024年 5月31日 | |
特許 7492900 | プラズマ処理装置 | 2024年 5月30日 | |
特許 7492990 | プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 | 2024年 5月30日 | |
特許 7488127 | 金属配線の形成方法及び成膜装置 | 2024年 5月21日 | |
特許 7488135 | スパッタリングターゲット及びスパッタリングターゲットの製造方法 | 2024年 5月21日 | |
特許 7488147 | ハードマスク及びハードマスクの製造方法 | 2024年 5月21日 | |
特許 7488149 | 真空処理装置、真空処理方法 | 2024年 5月21日 | |
特許 7481150 | 真空成膜装置及び真空成膜方法 | 2024年 5月10日 | |
特許 7478049 | スパッタリング装置及び金属化合物膜の成膜方法 | 2024年 5月 2日 |
66 件中 31-45 件を表示
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7503702 7502120 7496239 7495289 7493580 7493666 7493688 7492900 7492990 7488127 7488135 7488147 7488149 7481150 7478049
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