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東京エレクトロン株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第56位 677件
（
2014年：第58位 686件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第51位 433件
（
2014年：第48位 694件）
（ランキング更新日：2024年12月2日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5689283 | 基板処理方法及びその方法を実行するプログラムを記憶する記憶媒体 | 2015年 3月25日 | |
| 特許 5689294 | 処理装置 | 2015年 3月25日 | |
| 特許 5689398 | 窒化シリコン膜の成膜方法及び成膜装置 | 2015年 3月25日 | |
| 特許 5690596 | フォーカスリング及び該フォーカスリングを備える基板処理装置 | 2015年 3月25日 | |
| 特許 5685094 | プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 | 2015年 3月18日 | |
| 特許 5685134 | クリーンルームの除塵装置 | 2015年 3月18日 | |
| 特許 5685135 | クリーンルームの除塵システム | 2015年 3月18日 | |
| 特許 5685554 | 剥離装置、剥離システム、剥離方法および剥離プログラム | 2015年 3月18日 | |
| 特許 5685615 | マイクロ波加熱処理方法 | 2015年 3月18日 | |
| 特許 5686971 | フォーカスリングの加熱方法及びプラズマエッチング装置及びプラズマエッチング方法 | 2015年 3月18日 | |
| 特許 5686996 | プラズマ処理装置 | 2015年 3月18日 | |
| 特許 5681560 | 基板乾燥方法及び基板処理装置 | 2015年 3月11日 | |
| 特許 5682290 | 炭素含有薄膜のスリミング方法及び酸化装置 | 2015年 3月11日 | |
| 特許 5682521 | 周縁部塗布装置、周縁部塗布方法及び記憶媒体 | 2015年 3月11日 | |
| 特許 5683038 | 成膜方法 | 2015年 3月11日 |
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5689283 5689294 5689398 5690596 5685094 5685134 5685135 5685554 5685615 5686971 5686996 5681560 5682290 5682521 5683038
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12月10日(火) - 東京 港区
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12月12日(木) - 東京 千代田
12月12日(木) -
12月12日(木) -
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12月13日(金) - 東京 品川
12月13日(金) -
12月13日(金) -
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