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東京エレクトロン株式会社
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■ 2015年 出願公開件数ランキング 第56位 677件
（
2014年：第58位 686件）
■ 2015年 特許取得件数ランキング 第51位 433件
（
2014年：第48位 694件）
（ランキング更新日：2025年2月28日）筆頭出願人である出願のみカウントしています
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東京エレクトロン株式会社の商標一覧| 公報番号 | 発明の名称(クリックすると公報を新しいウィンドウで開きます) | 公報発行日 | 備考 |
|---|---|---|---|
| 特許 5666394 | めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5666414 | 液処理装置、液処理方法および記憶媒体 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5666419 | めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5666888 | プラズマ処理装置及び処理システム | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5666991 | 誘導結合プラズマ用アンテナユニットおよび誘導結合プラズマ処理装置 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5667012 | リング状シールド部材、その構成部品及びリング状シールド部材を備えた基板載置台 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5667545 | 液処理装置および液処理方法 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5667550 | めっき処理装置、めっき処理方法および記憶媒体 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5667592 | 基板処理装置 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5667953 | 基板の処理方法及び基板の処理装置 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5667996 | 基板処理装置 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5668254 | 比重誘起ガス拡散分離（ＧＩＧＤＳ）法によるプラズマ生成の制御 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5668650 | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | 2015年 2月12日 | |
| 特許 5662845 | 熱処理装置およびその制御方法 | 2015年 2月 4日 | |
| 特許 5662918 | 液処理装置及び液処理方法 | 2015年 2月 4日 |
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5666394 5666414 5666419 5666888 5666991 5667012 5667545 5667550 5667592 5667953 5667996 5668254 5668650 5662845 5662918
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